[发明专利]MOCVD系统及其反应气体输送装置

摘要

本发明涉及一种MOCVD系统的反应气体输送装置，用于反应气体输送与均匀分布控制，能够将进行MOCVD工艺所需的一路反应气体，依次引入至喷淋头上沿圆周边缘布置的第一分布空间，在第一分布空间内侧布置的第二分布空间，以及平行分布在被第二分布空间所限定区域的多个气槽。本发明的装置，使得该路反应气体从腔盖圆周边缘的多个进气点进入，通过两次分配后沿圆弧方向均匀分布，之后通过每个气槽自身开设的多个喷气口或至少一个细缝，将气槽内的反应气体输送至反应腔内。本发明的装置易于加工，可靠性高，能够实现反应气体在外延片表面的均匀分布。

主权项

1.一种MOCVD系统的反应气体输送装置，其特征在于，所述装置包含位于反应腔顶部的喷淋头，该喷淋头进一步包含：第一分布空间，其设置在所述喷淋头的圆周边缘；通过与该第一分布空间相连通的分布设置于该喷淋头圆周边缘的多个进气口，将一路反应气体引入所述喷淋头；第二分布空间，其设置在所述第一分布空间的内侧；所述第二分布空间通过沿其侧壁分布设置的若干匀气孔与第一分布空间连通，将该路反应气体从第一分布空间引入至第二分布空间；多个气槽，平行地分布在喷淋头上被第二分布空间所限定的区域；且每个气槽通过其两端分别设置的通气孔与第二分布空间连通，将该路反应气体从第二分布空间引入至相应的气槽内；每个气槽还通过自身开设的多个喷气口或至少一个细缝，将该气槽内的该路反应气体输送至反应腔内；其中，所述喷淋头上设有多个独立的区域，对该路反应气体进入喷淋头的多个路径分别进行控制；这些区域按照平行于所述喷淋头的中心线的直线划分，以使每个区域的两端包含分别位于该区域第一侧和第二侧的区段，每个区段上开设有至少一个所述进气口以引入该路反应气体；每个区域同一侧的区段，包含属于第一分布空间的第一分布区段，和与该第一分布区段相应连通并且属于第二分布空间的第二分布区段；每个区域还包含所述气槽中的若干个气槽，每个气槽连通相应区域第一侧与第二侧的第二分布区段；各区域的第一侧和第二侧与该区域中各气槽的第一端和第二端各自相对应；各气槽第一端与第二端的连线与所述中心线平行或重合；该中心线是所述喷淋头上其中一个直径所在的直线；所述喷淋头的第二分布空间中，不同区域的第二分布区段之间通过设置隔断体相互隔断，防止该路反应气体在不同区域的第二分布区段之间流通。