[发明专利]一种在太阳能电池背面进行选择性金属化的方法在审
申请号: | 201510138031.8 | 申请日: | 2015-03-26 |
公开(公告)号: | CN104733566A | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
发明(设计)人: | 王伟 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人: | 郭小丽 |
地址: | 213031 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种在太阳能电池背面进行选择性金属化的方法,包括硅片1预处理;硅片1硼扩散处理;去除背面BSG、抛光;对硅片进行磷扩散处理;正、背面减反钝化膜沉积;正面金属化;背面金属接触区开膜;背面金属接触区域电镀金属A;背面非金属接触区域蒸镀金属B等步骤,它解决现有技术中在太阳能电池背面进行选择性金属化工艺复杂,生产成本高的技术问题。本发明具有流程简单,成本低等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳能电池 背面 进行 选择性 金属化 方法 | ||
【主权项】:
一种在太阳能电池背面进行选择性金属化的方法,包括如下步骤:Ⅰ.硅片(1)预处理:对硅片(1)两面实现表面减反制备,从而在硅片的正面和背面分别形成减反绒面(2);Ⅱ.硅片(1)硼扩散处理:利用硼源对硅片(1)进行硼掺杂,从而在硅片的正面和背面分别形成P+ 层(3);Ⅲ.去除背面步骤B中硼扩散形成的BSG,并实现抛光,从而在硅片的背面形成抛光面(4);Ⅳ.对硅片进行磷扩散处理:利用磷源对硅片(1)进行扩散,在硅片背面形成N+层(5); Ⅴ.正、背面减反钝化膜沉积:在硅片正面利用化学气相沉积的方式沉积表面钝化层和减反层(6),在背面利用化学气相沉积的方式沉积钝化层(7);Ⅵ.正面金属化:在硅片(1)正面采用丝网印刷技术,进行金属化,烧结后形成正面金属电极(8);Ⅶ.背面金属接触区开膜:采用激光技术打开硅片背面需要金属接触区域的钝化膜,形成开膜区(9);Ⅷ.背面金属接触区域电镀金属A:采用电镀技术在硅片背面开膜区(9)内电镀一层金属A,形成金属A层(10);Ⅸ.背面非金属接触区域蒸镀金属B:采用蒸镀技术在硅片背面非金属接触区蒸镀一层金属B,形成金属B层(11)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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