[发明专利]对准系统及消除对准系统的电子噪声的方法有效
申请号: | 201510140857.8 | 申请日: | 2015-03-27 |
公开(公告)号: | CN106154738B | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 李运锋 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G03F9/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种对准系统及消除对准系统的电子噪声的方法,通过开启所述对准光源照射位于掩模或掩模基准板上的掩模标记,透射光照射位于工件台基准板上的参考标记中的部分标记形成对准信号通道,所述对准信号通道的对准信号用于获取对准位置,所述参考标记中透射光未照射到的标记形成参考通道,由于参考通道与对准信号通道中电子噪声存在的相关性,利用所述参考通道的暗电流信号消除对准信号通道中的电子噪声,降低了信噪比,提高了对准信号的质量及对准系统的对准精度。 | ||
搜索关键词: | 对准 系统 消除 电子 噪声 方法 | ||
【主权项】:
1.一种对准系统,包括对准光源、位于掩模或掩模基准板上的掩模标记和位于工件台基准板上的参考标记,其特征在于,开启所述对准光源照射掩模标记,透射光照射所述参考标记中的部分标记形成对准信号通道,所述对准信号通道的对准信号用于获取对准位置,所述参考标记中透射光未照射到的标记形成参考通道,所述参考通道的暗电流信号用于消除对准信号通道中的电子噪声;所述消除对准信号通道中的电子噪声为:
其中,Salign为所述对准信号,S′align为消除电子噪声后的对准信号,Sref为所述暗电流信号,Salign,dark为对准信号通道的平均暗电流值,Sref,dark为参考通道的平均暗电流值。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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