[发明专利]一种高效低成本N型背结前接触单晶电池的制作方法在审
申请号: | 201510143771.0 | 申请日: | 2015-03-30 |
公开(公告)号: | CN104733567A | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
发明(设计)人: | 陆海斌;孙波远 | 申请(专利权)人: | 百力达太阳能股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 翁若莹 |
地址: | 314512 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了一种高效低成本N型背结前接触单晶电池的制作方法,包括如下步骤:步骤1:在N型单晶硅片的正面制绒,使用磷扩散,刻蚀清洗,镀减反膜;步骤2:在N型单晶硅片的背面印刷纳米硅硼浆并烘干;步骤3:在N型单晶硅片的背面对纳米硅硼浆进行扩散掺杂;步骤4:在N型单晶硅片的背面印刷背面电极银浆并烘干;步骤5:在N型单晶硅片的背面印刷背面铝浆并烘干;步骤6:在N型单晶硅片的正面印刷主副栅线电极银浆并烧结。本发明采用了在N型单晶硅片的背面印刷纳米硅硼浆并进行激光掺杂的技术手段,有效解决了背结缺陷,构成完善的背结结构,提高了转换效率,具有成本投入低、电池效率高、电池结构稳定、组件模块焊接性能好的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 高效 低成本 型背结前 接触 电池 制作方法 | ||
【主权项】:
一种高效低成本N型背结前接触单晶电池的制作方法,其特征在于:包括如下6个步骤:步骤1:在N型单晶硅片的正面制绒,使用磷扩散,刻蚀清洗,镀减反膜;步骤2:在N型单晶硅片的背面印刷纳米硅硼浆并烘干;步骤3:在N型单晶硅片的背面对纳米硅硼浆进行扩散掺杂;步骤4:在N型单晶硅片的背面印刷背面电极银浆并烘干;步骤5:在N型单晶硅片的背面印刷背面铝浆并烘干;步骤6:在N型单晶硅片的正面印刷主副栅线电极银浆并烧结。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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