[发明专利]低含量界面相诱导形成三相共连续三元共混物及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510144608.6 申请日: 2015-03-31
公开(公告)号: CN104725750A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 尹波;窦睿;邵艳;李双林;杨鸣波 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: C08L27/16 分类号: C08L27/16;C08L23/06;C08L25/06
代理公司: 代理人:
地址: 610065 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了低含量界面相诱导形成三相共连续三元共混物及其制备方法,所述共混物是由40vol%~45vol%的聚偏氟乙烯,40vol%~55vol%的高密度聚乙烯和聚苯乙烯经熔融共混制备得到,其中界面相聚苯乙烯的用量不超过20vol%。本发明还提供了所述低含量界面相诱导形成三相共连续三元共混物的制备方法。本发明加工过程操作简单、成本低廉。相比二元聚偏氟乙烯/聚苯乙烯共混物,本发明所述三元共混物能够在聚苯乙烯含量很低的情况下形成连续相结构,这样的结构拓宽了共混物在低含量下的连续相结构应用以及其潜在的功能化结构设计。
搜索关键词: 含量 界面 诱导 形成 三相 连续 三元 共混物 及其 制备 方法
【主权项】:
一种低含量界面相诱导形成三相共连续三元共混物,其特征在于,所述共混物是由40vol%~45vol%的聚偏氟乙烯,40vol%~55vol%的高密度聚乙烯和聚苯乙烯经熔融共混制备得到,其中界面相聚苯乙烯的用量不超过20vol%。
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