[发明专利]用于磷光性二氮杂硼杂环戊二烯金属配合物和电致发光器件的二胺化合物在审
申请号: | 201510146315.1 | 申请日: | 2015-03-31 |
公开(公告)号: | CN104945425A | 公开(公告)日: | 2015-09-30 |
发明(设计)人: | A·比利克;M·波恩;A·威尔逊;上野和则 | 申请(专利权)人: | 联邦科学和工业研究组织 |
主分类号: | C07F5/02 | 分类号: | C07F5/02;C07D409/12;C07D495/04;C07F15/00;C09K11/06;H01L51/54 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 王海宁 |
地址: | 澳大利亚*** | 国省代码: | 澳大利亚;AU |
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摘要: | 本公开总体上涉及二胺化合物,其可以在制备二氮杂硼杂环戊二烯化合物和磷光性二氮杂硼杂环戊二烯金属配合物中用作前体。本公开还涉及二氮杂硼杂环戊二烯化合物、二氮杂硼杂环戊二烯金属配合物和电致发光发射材料和其电子器件。本公开进一步涉及用于制备所述二胺化合物和二氮杂硼杂环戊二烯金属配合物的方法。 | ||
搜索关键词: | 用于 磷光 性二氮杂硼杂环戊二烯 金属 配合 电致发光 器件 化合物 | ||
【主权项】:
一种式1或式2d的化合物:其中R1选自C1‑20烷基、C2‑20烯基、C2‑20炔基以及5或6元芳基或杂芳基,其每一个任选地被一个或多个独立地选自卤素、CN、NO2、C(O)R2、OR2、OS(O)2R2、NR2R3、SR2、芳基和杂芳基的取代基取代;其中R2和R3各自独立地选自氢和C1‑6烷基;Q是任选取代的、任选稠合的5或6元杂环,其中虚线环表示多至两个的任选双键在所述环中的任选位置;并且Q1、Q2和Q3各自独立地选自CR4或N;其中Q1、Q2和Q3中的至少一个是N;并且R4独立地选自氢、卤素、CN、NO2、C(O)R2、OR2、OS(O)2R2、NR2R3、SR2、任选取代的C1‑20烷基、任选取代的C2‑20烯基、任选取代的C2‑20炔基、任选取代的5或6元芳基或杂芳基,并且任选地,来自相邻环原子的两个R4取代基连接在一起以形成任选取代的5或6元芳基或杂芳基环;其中R2和R3如上文所定义;Q4、Q5和Q6各自独立地选自N、S、O、CR4和NR5,其中Q4、Q5和Q6中的至少一个选自N、S、O和NR5;其中R4如上文所定义并且R5根据如上的R1定义;条件是当T存在时则Q4选自C‑T和N‑T,并且当T不存在时Q不是呋喃并[2,3‑C]吡啶基;T是环Q和环A之间的拴系基团,其具有被共同连接在线性链中的1至3个原子,其中Q4原子和A环之间的虚线表示T是任选基团,并且其中T选自C、N、O、S、Si和B,其每一个任选地被一个或多个独立地选自氢、卤素、CN、NO2、=O、C(O)R2、OR2、OS(O)2R2、NR2R3、SR2、任选取代的C1‑10烷基、任选取代的C2‑10烯基、任选取代的C2‑10炔基和任选取代的5或6元芳基或杂芳基的取代基取代,以及任选地与3‑6元碳环或杂环稠合;并且其中R2和R3各自独立地如上文所定义,A是含有供体原子D和环原子A1的单环或双环的5或6元杂环,并且任选地具有1或2个另外的选自O、S和N的环杂原子,其中所述杂环任选地被1至3个独立地选自氢、卤素、CN、NO2、C(O)R2、OR2、OS(O)2R2、NR2R3、SR2、任选取代的C1‑20烷基、任选取代的C2‑20烯基、任选取代的C2‑20炔基和任选取代的5或6元芳基或杂芳基的取代基取代;其中R2和R3各自独立地如上文所定义;A1选自C、O、S、N、CR8、C(R8)2和NR9;其中每个R8独立地选自氢、卤素、CN、NO2、C(O)R2、OR2、OS(O)2R2、NR2R3、SR2、任选取代的C1‑20烷基、任选取代的C2‑20烯基、任选取代的C2‑20炔基、任选取代的5或6元芳基或杂芳基;R9选自氢、C1‑20烷基、C2‑20烯基、C2‑20炔基和5或6元芳基或杂芳基,其每一个可以任选地被一个或多个独立地选自卤素、CN、NO2、C(O)R2、OR2、OS(O)2R2、NR2R3、SR2、芳基和杂芳基的取代基取代;并且其中R2和R3如上文所定义;以及D是选自N、O、S、P、Se和Te的供体原子。
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