[发明专利]准分子激光退火装置有效

专利信息
申请号: 201510147761.4 申请日: 2015-03-31
公开(公告)号: CN104766813B 公开(公告)日: 2017-09-26
发明(设计)人: 田雪雁 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/268
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 彭瑞欣,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供的准分子激光退火装置,包括工艺腔室、脉冲延长模块和激光器,激光器用于发射激光束;脉冲延长模块用于将该激光束的脉冲时间延长,并向设置在反应腔室内的基板输出延长后的脉冲激光;脉冲延长模块包括至少两组脉冲延长偏向镜组,每组脉冲延长偏向镜组包括四个脉冲延长偏向镜,且各组脉冲延长偏向镜组的脉冲延长时间不同;驱动装置,用于驱动各组脉冲延长偏向镜组运动至光路通过位置或者偏离光路位置。本发明提供的准分子激光退火装置,其可以根据具体情况选择合适的脉冲延长时间,从而可以保证激光脉冲时间和激光工作能量均满足要求,进而可以提高多晶硅薄膜的生产稳定性及良率。
搜索关键词: 准分子激光 退火 装置
【主权项】:
一种准分子激光退火装置,包括工艺腔室、脉冲延长模块和激光器,所述激光器用于发射激光束;所述脉冲延长模块用于将该激光束的脉冲时间延长,并向设置在所述工艺腔室内的基板输出延长后的脉冲激光;其特征在于,所述脉冲延长模块包括:至少两组脉冲延长偏向镜组,每组脉冲延长偏向镜组包括四个脉冲延长偏向镜,且各组脉冲延长偏向镜组的脉冲延长时间不同;驱动装置,用于驱动各组脉冲延长偏向镜组运动至光路通过位置或者偏离光路位置;控制单元,所述控制单元用于按预设的时间间隔或者实时选择性地控制所述驱动装置驱动其中一组脉冲延长偏向镜组运动至该组脉冲延长偏向镜组所对应的所述光路通过位置;其余的脉冲延长偏向镜组位于各自的所述偏离光路位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510147761.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top