[发明专利]准分子激光退火装置有效
申请号: | 201510147761.4 | 申请日: | 2015-03-31 |
公开(公告)号: | CN104766813B | 公开(公告)日: | 2017-09-26 |
发明(设计)人: | 田雪雁 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/268 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 彭瑞欣,陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供的准分子激光退火装置,包括工艺腔室、脉冲延长模块和激光器,激光器用于发射激光束;脉冲延长模块用于将该激光束的脉冲时间延长,并向设置在反应腔室内的基板输出延长后的脉冲激光;脉冲延长模块包括至少两组脉冲延长偏向镜组,每组脉冲延长偏向镜组包括四个脉冲延长偏向镜,且各组脉冲延长偏向镜组的脉冲延长时间不同;驱动装置,用于驱动各组脉冲延长偏向镜组运动至光路通过位置或者偏离光路位置。本发明提供的准分子激光退火装置,其可以根据具体情况选择合适的脉冲延长时间,从而可以保证激光脉冲时间和激光工作能量均满足要求,进而可以提高多晶硅薄膜的生产稳定性及良率。 | ||
搜索关键词: | 准分子激光 退火 装置 | ||
【主权项】:
一种准分子激光退火装置,包括工艺腔室、脉冲延长模块和激光器,所述激光器用于发射激光束;所述脉冲延长模块用于将该激光束的脉冲时间延长,并向设置在所述工艺腔室内的基板输出延长后的脉冲激光;其特征在于,所述脉冲延长模块包括:至少两组脉冲延长偏向镜组,每组脉冲延长偏向镜组包括四个脉冲延长偏向镜,且各组脉冲延长偏向镜组的脉冲延长时间不同;驱动装置,用于驱动各组脉冲延长偏向镜组运动至光路通过位置或者偏离光路位置;控制单元,所述控制单元用于按预设的时间间隔或者实时选择性地控制所述驱动装置驱动其中一组脉冲延长偏向镜组运动至该组脉冲延长偏向镜组所对应的所述光路通过位置;其余的脉冲延长偏向镜组位于各自的所述偏离光路位置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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