[发明专利]一种激光退火装置及其退火方法

摘要

本发明公开了一种激光退火装置及其退火方法，该退火装置包括第一退火光路系统、第二退火光路系统和合束光路系统，第一退火光路系统包括可见激光光源、与可见激光光源对应的可见激光光路系统和第一能量监测单元；第二退火光路系统包括近红外激光光源、与近红外激光光源对应的近红外激光光路系统、第二能量监测单元和能量调节单元；近红外激光光路系统包括近红外激光光源位置调节单元；合束光路系统设于可见激光光路系统和近红外激光光路系统之后，工件台之前。本发明通过能量调节单元和近红外激光光源位置调节单元分别对两束退火光斑的相对尺寸和位置进行调整以控制退火的驻留时间和退火温度，达到硅片不同位置的退火需求，提高了系统的退火性能。

主权项

1.一种退火方法，应用于激光退火装置中，所述激光退火装置包括第一退火光路系统、第二退火光路系统和合束光路系统，其中所述第一退火光路系统包括可见激光光源、与所述可见激光光源对应的可见激光光路系统和第一能量监测单元；所述第二退火光路系统包括近红外激光光源、与所述近红外激光光源对应的近红外激光光路系统、第二能量监测单元和能量调节单元；所述近红外激光光路系统包括近红外激光光源位置调节单元；所述合束光路系统设于所述可见激光光路系统和近红外激光光路系统之后，工件台之前，其特征在于，包括以下步骤：S1：确定所述工件台上硅片不同位置的退火参数；S2：所述可见激光光源输出可见激光，并通过所述可见激光光路系统之后形成第一束退火光斑；同时所述近红外激光光源输出近红外激光，并通过所述近红外激光光路系统之后形成第二束退火光斑；所述第一束退火光斑与第二束退火光斑经过合束光路系统之后照射到工件台上；S3：根据S1中获得的硅片不同位置的退火深度参数和工件台的转速，利用所述近红外激光光源位置调节单元对所述近红外激光光源的位置进行调节；S4：第一能量监测单元和第二能量监测单元分别实时监测所述可见激光和近红外激光的能量；S5：根据S1中获得的硅片不同位置的退火深度参数和工件台的转速，使用能量调节单元实时调节近红外激光光源的光斑大小，实现对硅片的退火。