[发明专利]光掩膜的缺陷检测系统及光掩膜的缺陷检测方法在审

专利信息
申请号: 201510149073.1 申请日: 2015-03-31
公开(公告)号: CN106154740A 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 卢子轩;王跃刚;杨晓松 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F1/44 分类号: G03F1/44;G03F1/72;G01N21/88
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;张永明
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种光掩膜的缺陷检测系统及光掩膜的缺陷检测方法。其中,该缺陷检测系统包括:缺陷扫描单元,用于检测出光掩膜的表面上的缺陷的坐标值;缺陷分析单元,用于计算出任意两个或两个以上缺陷之间的坐标值的差值,并将沿同一坐标轴方向上的差值小于擦伤缺陷宽度容忍值的各缺陷作为擦伤缺陷。本申请提供的光掩膜的缺陷检测系统和缺陷检测方法能够提高光掩膜的缺陷检测过程中擦伤缺陷的发现几率。
搜索关键词: 光掩膜 缺陷 检测 系统 方法
【主权项】:
一种光掩膜的缺陷检测系统,其特征在于,所述缺陷检测系统包括:缺陷扫描单元,用于检测出所述光掩膜的表面上的缺陷的坐标值;缺陷分析单元,用于计算出任意两个或两个以上所述缺陷之间的坐标值的差值,并将沿同一坐标轴方向上的所述差值小于擦伤缺陷宽度容忍值的各所述缺陷作为擦伤缺陷。
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