[发明专利]转印方法及热纳米压印装置有效
| 申请号： | 201510155419.9 | 申请日： | 2013-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN104865792A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | 细见尚希;古池润;山口布士人 | 申请（专利权）人： | 旭化成电子材料株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B29C59/04 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 李晓 |
| 地址： | 日本国东京都千代*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 使用微细图案形成用膜(II)，在被处理体(20)上转印赋予以下第1掩模层(13)及第2掩模层(12)，所述微细图案形成用膜(II)具有在一侧的表面上形成有纳米尺度的凹凸结构(11)的覆盖膜(10)、设置于所述凹凸结构(11)的凹部内部的第2掩模层(12)、覆盖所述凹凸结构(11)及所述第2掩模层(12)而设置的第1掩模层(13)；此处，使设置有第1掩模层(13)的表面朝向所述被处理体(20)的表面，按压微细图案形成用膜(II)，对第1掩模层(13)照射能量射线，接着，将覆盖膜(10)从第2掩模层(12)及第1掩模层(13)上分离。此处，按压和能量射线照射分别独立进行。使用第2掩模层(12)及第1掩模层(13)，蚀刻被处理体(20)。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 纳米 压印 装置 | ||
【主权项】：
一种热压印装置，其将微细图案形成用膜的凹凸结构转印在被处理体上，所述微细图案形成用膜具有在一侧的表面上形成有凹凸结构的覆盖膜，其特征在于，所述热压印装置具备传送微细图案形成用膜的传送辊，和贴合部，所述贴合部至少由被处理体保持部构成，所述被处理体保持部能够从以所述传送辊传送的微细图案形成用膜的凹凸结构面一侧，介由被处理体进行按压。
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