[发明专利]一种平面波导装置的制造方法有效
| 申请号： | 201510155452.1 | 申请日： | 2015-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN106154417B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 杨磊 | 申请（专利权）人： | 杨文君 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆勍 |
| 地址： | 200333 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种平面波导装置的制造方法，包括以下步骤：a.在波导的表面上形成第一组膜层区段，该第一组膜层区段中的相邻区段之间彼此隔开；b.使用掩膜对该第一组膜层区段进行曝光，以固化该第一组膜层区段的所需部分；c.去除该第一组膜层区段中未经固化的边缘部分；d.在该第一组膜层区段中的至少部分相邻区段之间形成第二组膜层区段；以及e.使用掩膜对该第二组膜层区段进行曝光，以固化该第二组膜层区段。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 波导 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种平面波导装置的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：a.在波导的表面上形成第一组膜层区段，所述第一组膜层区段中的相邻区段之间彼此隔开；b.使用掩膜对所述第一组膜层区段进行曝光，以固化所述第一组膜层区段的所需部分；c.去除所述第一组膜层区段中未经固化的边缘部分；d.在所述第一组膜层区段中的至少部分相邻区段之间形成第二组膜层区段；以及e.使用掩膜对所述第二组膜层区段进行曝光，以固化所述第二组膜层区段。
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