[发明专利]套刻精度的控制方法以及装置在审
| 申请号： | 201510155575.5 | 申请日： | 2015-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN106154754A | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 刘健行;黄章咏;吴韦良 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/66 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 郝新慧;张浴月 |
| 地址： | 201500 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种套刻精度的自动补值方法及装置，该方法包括：获取每批正常检测器件的关于关键尺寸的数据；根据曝光机的当前工艺条件，对所获取的每批关键尺寸数据进行运算处理，以获得套刻精度的补值数据；将所获得的补值数据自动反馈给曝光机以对套刻精度进行补值。 | ||
| 搜索关键词： | 精度 控制 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
一种套刻精度的自动补值方法，包括：获取每批正常检测器件的关键尺寸的数据；根据曝光机的当前工艺条件，对所获取的每批关键尺寸数据进行运算处理，以获得套刻精度的补值数据；将所获得的补值数据自动反馈给曝光机以对套刻精度进行补值。
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