[发明专利]一种可有效降低LED的Droop效应的外延结构在审

专利信息
申请号: 201510155672.4 申请日: 2015-04-02
公开(公告)号: CN104821355A 公开(公告)日: 2015-08-05
发明(设计)人: 何苗;张玉力;郑树文;宿世臣 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/30
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 郑莹
地址: 510630 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种可有效降低LED的Droop效应的外延结构,包括有从下至上依次层叠的衬底、不掺杂的氮化镓层、N型氮化镓层、多量子阱层、电子阻挡层和P型氮化镓层,所述多量子阱层由多个垒层AlxGa(1-x)N和阱层InyGa(1-y)N交替叠加而成。本发明采用Al组分渐变AlGaN做垒层,有效拉低电子阻挡层的价带与靠近电子阻挡层的垒层的势垒落差,进而提高了空穴的注入效率,同时通过增加多量子阱中的阱与垒的势垒高度差进一步增强阱对电子的束缚作用,有效的抑制了电子的溢出,从而增加电子与空穴在多量子阱中的复合几率,进而提高LED的发光效率;而且对于与现有技术,本发明结构相对简单,利于MOCVD进行生长。本发明作为一种可有效降低LED的Droop效应的外延结构可广泛应用于LED领域。
搜索关键词: 一种 有效 降低 led droop 效应 外延 结构
【主权项】:
一种可有效降低LED的Droop效应的外延结构,其特征在于:包括有从下至上依次层叠的衬底、不掺杂的氮化镓层、N型氮化镓层、多量子阱层、电子阻挡层和P型氮化镓层,所述多量子阱层由多个垒层AlxGa(1‑x)N和阱层InyGa(1‑y)N交替叠加而成,其中x为垒层中Al的组分,其中y为阱层中In的组分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南师范大学,未经华南师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510155672.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top