[发明专利]半导体静电放电保护元件有效

专利信息
申请号: 201510156061.1 申请日: 2015-04-03
公开(公告)号: CN106158833B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 黄崇佑;苏冠丞;唐天浩;张秉真 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60;H01L29/78
代理公司: 11105 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陈小雯<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 中国台湾*** 国省代码: 中国台湾;TW
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摘要: 发明公开一种半导体静电放电保护元件,包含有一基底、一设置于该基底上的栅极组、分别设置于该栅极组两侧的该基底内的一源极区域与一漏极区域、至少一设置于该漏极区域内的第一掺杂区域、以及至少一设置于该基底内的第二掺杂区域。该源极区域与该漏极区域包含有一第一导电型态,而该第一掺杂区域与该第二掺杂区域则包含有一第二导电型态,且该第二导电型态与该第一导电型态互补。该第二掺杂区域与该第一掺杂区域彼此电连接。
搜索关键词: 半导体 静电 放电 保护 元件
【主权项】:
1.一种半导体静电放电(electrostatic discharge protection,ESD)保护元件,包含有:/n基底;/n栅极组(gate set),设置于该基底上;/n源极区域与漏极区域,分别设置于该栅极组两侧的该基底内,且该源极区域与该漏极区域包含有一第一导电型态(conductivity type);/n至少一第一掺杂区域,设置于该漏极区域内,该第一掺杂区域包含有一第二导电型态,且该第二导电型态与该第一导电型态互补(complementary);/n至少一第二掺杂区域,设置于该源极区域内,该第二掺杂区域包含有该第二导电型态,且该第二掺杂区域与该第一掺杂区域彼此电连接;/n第一阻挡结构,包围该第一掺杂区域以隔离该第一掺杂区域与该漏极区域;以及/n第二阻挡结构,包围该第二掺杂区域以隔离该第二掺杂区域。/n
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