[发明专利]垂直磁记录介质的制造方法在审

专利信息
申请号: 201510158129.X 申请日: 2015-04-03
公开(公告)号: CN104978979A 公开(公告)日: 2015-10-14
发明(设计)人: 畑山博史 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 刘航;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及垂直磁记录介质的制造方法,所述垂直磁记录介质在非磁性基板上形成有包含NiP系合金的基底镀层,且在该基底镀层之上依次层叠有软磁性基底层、垂直磁性层,该制造方法具有:粗研磨工序,该工序对包含NiP系合金的基底镀层的表面进行研磨;镜面研磨工序,该工序对所述粗研磨了的基底镀层的表面进一步进行镜面研磨;精研磨工序,该工序对所述镜面研磨了的基底镀层的表面进一步进行精研磨;和层叠工序,该工序在所述精研磨了的基底镀层上层叠软磁性基底层、垂直磁性层,在所述精研磨工序中使用的研磨液包含0.0005质量%~0.05质量%的范围内的平均粒径为10nm~150nm的氧化锆粒子。
搜索关键词: 垂直 记录 介质 制造 方法
【主权项】:
一种垂直磁记录介质的制造方法,所述垂直磁记录介质在非磁性基板上形成有包含NiP系合金的基底镀层,而且在该基底镀层之上依次层叠有软磁性基底层、垂直磁性层,该制造方法的特征在于,具有:粗研磨工序,该工序对包含NiP系合金的基底镀层的表面进行研磨;镜面研磨工序,该工序对所述粗研磨了的基底镀层的表面进一步进行镜面研磨;精研磨工序,该工序对所述镜面研磨了的基底镀层的表面进一步进行精研磨;和层叠工序,该工序在所述精研磨了的基底镀层上层叠软磁性基底层、垂直磁性层,在所述精研磨工序中使用的研磨液包含0.0005质量%~0.05质量%的范围内的平均粒径为10nm~150nm的氧化锆粒子。
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