[发明专利]垂直磁记录介质的制造方法在审
申请号: | 201510158129.X | 申请日: | 2015-04-03 |
公开(公告)号: | CN104978979A | 公开(公告)日: | 2015-10-14 |
发明(设计)人: | 畑山博史 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘航;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及垂直磁记录介质的制造方法,所述垂直磁记录介质在非磁性基板上形成有包含NiP系合金的基底镀层,且在该基底镀层之上依次层叠有软磁性基底层、垂直磁性层,该制造方法具有:粗研磨工序,该工序对包含NiP系合金的基底镀层的表面进行研磨;镜面研磨工序,该工序对所述粗研磨了的基底镀层的表面进一步进行镜面研磨;精研磨工序,该工序对所述镜面研磨了的基底镀层的表面进一步进行精研磨;和层叠工序,该工序在所述精研磨了的基底镀层上层叠软磁性基底层、垂直磁性层,在所述精研磨工序中使用的研磨液包含0.0005质量%~0.05质量%的范围内的平均粒径为10nm~150nm的氧化锆粒子。 | ||
搜索关键词: | 垂直 记录 介质 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种垂直磁记录介质的制造方法,所述垂直磁记录介质在非磁性基板上形成有包含NiP系合金的基底镀层,而且在该基底镀层之上依次层叠有软磁性基底层、垂直磁性层,该制造方法的特征在于,具有:粗研磨工序,该工序对包含NiP系合金的基底镀层的表面进行研磨;镜面研磨工序,该工序对所述粗研磨了的基底镀层的表面进一步进行镜面研磨;精研磨工序,该工序对所述镜面研磨了的基底镀层的表面进一步进行精研磨;和层叠工序,该工序在所述精研磨了的基底镀层上层叠软磁性基底层、垂直磁性层,在所述精研磨工序中使用的研磨液包含0.0005质量%~0.05质量%的范围内的平均粒径为10nm~150nm的氧化锆粒子。
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