[发明专利]修正图形的方法

摘要

一种修正图形的方法，包括：当掩膜板图形的尺寸小于预定值范围时，利用掩膜板的玻璃基板的透光性和遮光层的不透光性，曝光光束由玻璃基板背面射入，经由遮光层射入至光刻胶层，对光刻胶层进行曝光；显影后形成待刻蚀图形；刻蚀显影后剩余光刻胶层，使待刻蚀图形的关键尺寸增大至预定值范围；以刻蚀后的光刻胶层为掩膜，沿关键尺寸增大后的待刻蚀图形刻蚀遮光层至露出玻璃基板，形成满足预定值尺寸范围的图形。本发明在曝光时不需要对准，从而解决了曝光时对准精度低这一问题。

主权项

1.一种修正图形的方法，其特征在于，掩膜板制造过程包括：提供玻璃基板，所述玻璃基板上具有一层遮光层，所述遮光层上具有光刻胶层；对光刻胶层进行曝光、显影，形成待刻蚀图形；以光刻胶层为掩膜，沿待刻蚀图形刻蚀遮光层至露出玻璃基板，形成待修复图形；对待修复图形进行修正包括：待修复图形形成在所述遮光层内，且露出所述玻璃基板表面，所述待修复图形的关键尺寸小于预定值范围；在所述玻璃基板和形成有待修复图形的遮光层上涂布另一光刻胶层；对光刻胶层进行软烘；将曝光光束由玻璃基板背面射入，经由遮光层射入至光刻胶层，对所述光刻胶层进行曝光；对曝光后的光刻胶层进行显影，形成待刻蚀图形；对显影后的光刻胶层进行冷却；刻蚀显影后剩余光刻胶层两侧，使待刻蚀图形的关键尺寸增大至预定值范围；以光刻胶层为掩膜，沿关键尺寸增大的待刻蚀图形刻蚀遮光层至露出所述玻璃基板，形成满足预定尺寸的图形；去除光刻胶。