[发明专利]一种铬污染的原位修复方法在审

专利信息
申请号: 201510159423.2 申请日: 2015-04-03
公开(公告)号: CN104815844A 公开(公告)日: 2015-08-05
发明(设计)人: 郭丽莉;李书鹏;张岳;许超;谭勇壁;牛永超 申请(专利权)人: 北京建工环境修复股份有限公司
主分类号: B09C1/08 分类号: B09C1/08;C02F1/62
代理公司: 北京中建联合知识产权代理事务所(普通合伙) 11004 代理人: 宋元松
地址: 100015 北京市朝阳区京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种铬污染的原位修复方法包括:1)布置注入点和确定修复药剂量,保证修复药剂覆盖所有待修复场地;2)配制修复药剂;3)钻进系统具有定深设备,用于注入点定位;4)修复药剂高压注入。适用于该修复方法的原位修复系统包括配合作业的钻进系统和药剂混合及注入系统。本发明无需大规模基础设施的投建,基本不破坏地层结构,高压注入可以免受地层条件的影响,修复药剂在形成的压裂裂隙中分布均匀,对铬污染修复更有针对性、修复效果好、修复彻底不反弹,既能随时启停,又能连续大规模施工,利于工程化应用。
搜索关键词: 一种 污染 原位 修复 方法
【主权项】:
一种铬污染的原位修复方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一,布置注入点和确定修复药剂量修复药剂在注入点注入饱和层,修复药剂的渗透影响范围为一圆柱体,圆柱体半径即为注入点的影响半径;单个注入点覆盖面积的计算公式为:S=π·R2              (1)式(1)中,S表示注入点覆盖面积;R表示注入点的影响半径;为保证修复药剂覆盖所有待修复场地,相邻注入点之间应有适宜的搭接比,根据单个注入点的覆盖面积,设计待修复场地的注入点布置,各注入点覆盖面积相连,需完全覆盖待修复场地;待修复场地注入点总数量的计算公式为:<mrow><mi>N</mi><mo>=</mo><mfrac><mi>A</mi><mi>S</mi></mfrac><mo>&times;</mo><mi>&delta;</mi><mo>-</mo><mo>-</mo><mo>-</mo><mrow><mo>(</mo><mn>2</mn><mo>)</mo></mrow></mrow>式(2)中,N表示待修复场地注入点总数量;A表示待修复场地压裂注入修复总面积;δ表示搭接比,即相邻注入点重叠的面积与注入点覆盖面积S的比值;待修复场地所需修复药剂量的计算公式为:M=κ·m                   (3)式(3)中,M表示待修复场地所需修复药剂量;κ表示修复药剂的投加比;m表示待修复场地地下水质量;步骤二,配制修复药剂将修复药剂置于药剂注入斗中,加入适量溶剂,持续搅拌直至修复药剂与溶剂混合均匀;步骤三,注入点定位启动钻进系统,钻杆由注入点中心处向下钻进,钻进系统具有定深设备,可随时观察钻杆前端的钻进深度,当钻杆前端到达饱和层后,关停钻进系统,断开钻杆与钻进系统的连接;步骤四,修复药剂注入将修复药剂输送管与钻杆连接,启动注浆泵,向饱和层中注入修复药剂,在注入修复药剂过程中,准确记录实际注入量,达到设计的注入量后关停注浆泵。
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