[发明专利]一种薄膜晶体管阵列基板及其制造方法在审
申请号: | 201510166111.4 | 申请日: | 2015-04-09 |
公开(公告)号: | CN104795401A | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
发明(设计)人: | 徐向阳 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786;H01L21/77;G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;武岑飞 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种薄膜晶体管阵列基板,其包括:在基板(210)上的底栅极(220)和覆盖底栅极(220)的底栅极绝缘层(230);在底栅极绝缘层(230)上的半导体氧化物层(240)以及覆盖半导体氧化物层(240)且具有第一通孔(252)的刻蚀阻挡层(250);在刻蚀阻挡层(250)上的通过第一通孔(252)接触半导体氧化物层(240)的漏极(260b)和覆盖漏极(260b)的绝缘保护层(270);在绝缘保护层(270)、刻蚀阻挡层(250)以及底栅极绝缘层(230)中的第二通孔(272);在绝缘保护层(270)上的通过第二通孔(272)接触底栅极(220)的顶栅极(280a)。本发明还公开一种该薄膜晶体管阵列基板的制造方法。本发明的薄膜晶体管在光照负偏压的情况下可防止其阈值电压发生漂移。 | ||
搜索关键词: | 一种 薄膜晶体管 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管阵列基板,其特征在于,包括:在基板(210)上的薄膜晶体管的底栅极(220);在所述基板(210)上且覆盖所述底栅极(220)的底栅极绝缘层(230);在所述底栅极绝缘层(230)上的半导体氧化物层(240);在所述底栅极绝缘层(230)上且覆盖所述半导体氧化物层(240)的刻蚀阻挡层(250),所述刻蚀阻挡层(250)包括第一通孔(252),通过所述第一通孔(252)露出所述半导体氧化物层(240)的部分;在所述刻蚀阻挡层(250)上的所述薄膜晶体管的漏极(260b)和源极(260a),所述漏极(260b)通过所述第一通孔(252)接触所述半导体氧化物层(240);在所述刻蚀阻挡层(250)上且覆盖所述漏极(260b)和所述源极(260a)的绝缘保护层(270);在所述绝缘保护层(270)、所述刻蚀阻挡层(250)以及所述底栅极绝缘层(230)中的第二通孔(272),通过所述第二通孔(272)露出所述底栅极(220)的部分;在所述绝缘保护层(270)上的顶栅极(280a),所述顶栅极(280a)通过所述第二通孔(272)接触所述底栅极(220)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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