[发明专利]双层TiO2/Au多孔结构催化剂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510167744.7 申请日: 2015-04-09
公开(公告)号: CN104826625B 公开(公告)日: 2017-02-01
发明(设计)人: 陈爱英;石珊珊;王靖雯;潘登 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: B01J23/52 分类号: B01J23/52
代理公司: 上海脱颖律师事务所31259 代理人: 脱颖
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种双层TiO2/Au多孔结构催化剂及其制备方法。所述的双层多孔结构是以纳米多孔金(NPG)为基体,利用磁控溅射的方法在其表面溅射TiO2薄膜。其具体工艺步骤为将NPG薄膜置于导电玻璃上,将其放入真空室,采用高纯钛为靶材,调节O2分压为0.1‑1.5×10‑3Pa,溅射功率20‑50W,基底温度为23℃,偏压0~‑300mV。采用直流溅射进行薄膜沉积,沉积时间为5~300s,溅射的TiO2薄膜厚度为2‑20纳米。即得具有良好热稳定性的内层Au和外层TiO2为特征的双层多孔结构耐高温催化剂。
搜索关键词: 双层 tio2 au 多孔 结构 催化剂 及其 制备 方法
【主权项】:
一种制备双层TiO2/Au多孔结构催化剂的方法,包括步骤:采用纳米多孔金薄膜为基体,利用直流磁控溅射方法在多孔金表面镀一层TiO2,制备出双连续多孔结构催化剂;直流磁控溅射的条件为:以金属钛为靶材,O2分压为0.1‑1.5×10‑3Pa,溅射功率为20‑50W,偏压为0~‑300mV,溅射时间为5~300s;还包括热处理步骤:对直流磁控溅射后的样品进行热处理,热处理温度为100‑600℃,热处理时间为5分钟至5小时;所制备的多孔结构催化剂内层为Au纳米多孔金,外层TiO2薄膜为非晶态和/或纳米晶态,纳米晶TiO2的晶粒尺寸为2~5nm,外层TiO2薄膜厚度为2~15nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海理工大学,未经上海理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510167744.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top