[发明专利]一种可校正物料起伏的光刻装置及方法有效
| 申请号： | 201510175996.4 | 申请日： | 2015-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN106154759B | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 陈丹;王献英 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种可校正物料起伏的光刻装置，其特征在于，包括：照明系统，用于提供一光刻光束；掩模台，用于承载掩模；掩模台垂向传感器，用于探测并控制一掩模台的垂向位置；掩模调焦调平系统，用于测量掩模的面形；工件台，用于承载基板运动，补偿掩模和基板面形的低阶量；基板调焦调平系统，用于测量基板的面形；工件台垂向传感器，用于探测并控制一工件台的垂向位置；物镜阵列，由多个单物镜组成的两列物镜，单物镜包括上方可动镜片和下方可动镜片，所述上方可动镜片和下方可动镜片具有垂向调整功能，上方可动镜片用于补偿掩模局部面形高阶量，下方可动镜片用于补偿基板局部面形高阶量；掩模调焦调平系统和基板调焦调平系统位于两列物镜之间，掩模调焦调平系统位于基板调焦调平系统的正上方。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 校正 物料 起伏 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种可校正物料起伏的光刻装置，其特征在于，包括：照明系统，用于提供一光刻光束；掩模台，用于承载掩模；掩模台垂向传感器，用于探测并控制所述掩模台的垂向位置；掩模调焦调平系统，用于测量掩模的面形；工件台，用于承载基板运动，补偿掩模和基板面形的低阶量；基板调焦调平系统，用于测量基板的面形；工件台垂向传感器，用于探测并控制所述工件台的垂向位置；物镜阵列，由多个单物镜组成的两列物镜，单物镜包括上方可动镜片和下方可动镜片，所述上方可动镜片和下方可动镜片具有垂向调整功能，上方可动镜片用于补偿掩模局部面形高阶量，下方可动镜片用于补偿基板局部面形高阶量；掩模调焦调平系统和基板调焦调平系统位于两列物镜之间，掩模调焦调平系统位于基板调焦调平系统的正上方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510175996.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
