[发明专利]一种曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201510175999.8 | 申请日： | 2015-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN106154760B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 程琦;陈飞彪 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明一种曝光装置，其特征在于，包括：一照明系统，用于提供曝光所用之光束；一投影物镜阵列，包括N个投影物镜，用于将位于一掩模板上的图形投影至一基板，N为大于1的自然数；一六自由度探测器阵列，由若干六自由度探测器组成，用于测量一对准标记的水平向和垂直向位置；一掩模台，用于承载所述掩模板并提供位移；一工件台，用于承载所述基板并提供位移；所述掩模板与所述基板相对同步移动。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：一照明系统，用于提供曝光所用之光束；一投影物镜阵列，包括N个投影物镜，用于将位于一掩模板上的图形投影至一基板，N为大于1的自然数；一六自由度探测器阵列，由若干六自由度探测器组成，用于测量曝光场内对准标记的水平向和垂直向位置，所述六自由度探测器包括一水平向探测器和一垂向探测器，所述水平向探测器和垂向探测器共用一个分光成像单元，可分别测量对准标记的水平向和垂直向位置，当对准标记的垂直向位置有离焦时，在对准位置的计算结果中对离焦量进行补偿；一掩模台，用于承载所述掩模板并提供位移；一工件台，用于承载所述基板并提供位移；所述掩模板与所述基板相对同步移动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510175999.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
