[发明专利]电极基板、显示装置、输入装置及电极基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201510176001.6 申请日: 2015-04-14
公开(公告)号: CN105045442B 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 石崎刚司;园田大介;石垣利昌 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044;G02F1/1333
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 田喜庆;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供以覆盖电极的方式形成保护膜时高精度调整保护膜端部位置的电极基板、显示装置、输入装置及电极基板的制造方法。电极基板(ES)具有:第二基板(31);及检测电极(TDL),从第二基板(31)的上表面的第一区域(AR1)经过第二基板(31)的上表面的第二区域(AR2)直至第二基板(31)的上表面的第三区域(AR3)地连续形成在第二基板(31)上。电极基板(ES)还具有:凹凸图案(UE1),在第二区域(AR2)处形成于检测电极(TDL)或第二基板(31);及保护膜(33),在第一区域(AR1)及第二区域(AR2)处以覆盖检测电极(TDL)的方式形成。保护膜(33)的第三区域(AR3)侧的端部位于凹凸图案(UE1)上。
搜索关键词: 第二基板 电极基板 第二区域 保护膜 上表面 凹凸图案 第一区域 检测电极 输入装置 显示装置 保护膜端部 高精度调整 覆盖电极 覆盖检测 连续形成 电极 制造
【主权项】:
一种电极基板,其特征在于,具有:第一基板;第一电极,从所述第一基板的第一主面的第一区域经过所述第一基板的所述第一主面的第二区域直至所述第一基板的所述第一主面的第三区域地连续形成在所述第一基板上;凹凸图案,在所述第二区域形成于所述第一电极或所述第一基板;以及保护膜,在所述第一区域以及所述第二区域以覆盖所述第一电极的方式而形成,所述保护膜的所述第三区域侧的端部位于所述凹凸图案上,所述凹凸图案包括形成于所述第一电极的上表面的凹部。
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