[发明专利]TFT布局结构有效

专利信息
申请号: 201510176251.X 申请日: 2015-04-14
公开(公告)号: CN104779257B 公开(公告)日: 2017-11-03
发明(设计)人: 韩佰祥;石龙强 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种TFT布局结构,包括受同一控制信号线控制的第一薄膜晶体管(T1)、与第二薄膜晶体管(T2);第一薄膜晶体管(T1)的第一有源层(SC1)、与第二薄膜晶体管(T2)的第二有源层(SC2)位于不同层别,并在空间上层叠设置,第一薄膜晶体管(T1)的第一源极(S1)、及第一漏极(D1)形成于第一有源层(SC1)上,第二薄膜晶体管(T2)的第二源极(S2)、及第二漏极(D2)形成于第二有源层(SC2)上;栅极层(Gate)电性连接所述控制信号线控制第一、第二薄膜晶体管(T1、T2)的打开与关闭。该TFT布局结构能够缩小电路布局的空间,增加显示面板的开口率,满足显示面板窄边框、及高分辨率的要求。
搜索关键词: tft 布局 结构
【主权项】:
一种TFT布局结构,其特征在于,包括受同一控制信号线控制的第一薄膜晶体管(T1)、与第二薄膜晶体管(T2);所述第一薄膜晶体管(T1)包括栅极层(Gate)、第一有源层(SC1)、第一源极(S1)、及第一漏极(D1),所述第二薄膜晶体管(T2)包括栅极层(Gate)、第二有源层(SC2)、第二源极(S2)、及第二漏极(D2);所述第一有源层(SC1)、与第二有源层(SC2)位于不同层别,并在空间上层叠设置,所述第一源极(S1)、及第一漏极(D1)形成于第一有源层(SC1)上,所述第二源极(S2)、及第二漏极(D2)形成于第二有源层(SC2)上;所述栅极层(Gate)电性连接所述控制信号线控制第一、第二薄膜晶体管(T1、T2)的打开与关闭;所述第一有源层(SC1)、与第二有源层(SC2)在空间上相互交叉。
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