[发明专利]一种旋转通道式激光剥蚀池

摘要

本发明提供了一种旋转通道式激光剥蚀池，至少包括外腔体以及安装于外腔室中的样品座，所述的外腔体为中空状，其侧壁上设置有进气口和排气口，外腔体的顶部设置有卡槽以及顶盖；所述顶盖上设置有分析窗口；所述的样品座呈扁圆柱状，由待测样品座和标准样品座组成；外腔体的侧壁上设置有旋转手柄，外腔体的底部设置有旋转支撑底座，所述的旋转支撑底座通过传动部件与旋转手柄连接并能够在旋转手柄的带动下进行旋转。本发明可以显著降低样品更换频率；消除常规剥蚀池在分析过程中存在的位置效应；实际分析过程的分析体积微小，记忆效应极低，单脉冲清洗时间<1s；可以快速对标准样品和待测样品进行定位；避免分析样品表面的交叉污染。

主权项

一种旋转通道式激光剥蚀池，至少包括外腔体以及安装于外腔室中的样品座，样品座上设置有待测样品靶位，其特征在于：所述的外腔体为中空状，其侧壁上设置有进气口和排气口，外腔体的底部密封，且外腔体的底部上在其非中心部位处开有透明窗口，外腔体的顶部设置有卡槽以及可拆卸的顶盖，顶盖通过卡槽密封固定在外腔体的顶端；所述顶盖上在与透明窗口的位置对应处设置有透明的分析窗口，分析窗口的下部开有导气槽，顶盖的一侧开有出气孔，所述导气槽与出气孔连通；所述的样品座呈扁圆柱状，由待测样品座和标准样品座组成，标准样品座位于样品座的中心部位，其上设置有标准样品靶位和磁块卡槽，待测样品座呈环状，其上均匀分布有待测样品靶位，标准样品座位于呈环状的待测样品座的中心空缺部位处，且两者之间能够相对旋转；标准样品座通过磁块卡槽中设置的磁块吸附固定在顶盖上；外腔体的侧壁上设置有旋转手柄，外腔体的底部设置有旋转支撑底座，所述的旋转支撑底座通过传动部件与旋转手柄连接并能够在旋转手柄的带动下进行旋转，所述的待测样品座安装于旋转支撑底座上并随着旋转支撑底座的旋转而在外腔体内旋转，同时绕标准样品座旋转。