[发明专利]掩膜版与焦点偏移的判断方法

摘要

本申请提供了一种掩膜版与焦点偏移的判断方法。该掩膜版包括套刻标记，该套刻标记具有至少两个图形，且各图形平行或垂直，各图形具有至少三个相互平行的矩形，各矩形的宽度不相等，相邻两个矩形之间具有间距。上述掩膜版的图形中的矩形的宽度不相等，当将掩膜版的套刻标记转移到光刻胶上时，若焦点出现较小的偏移，光刻胶上的宽度较小的矩形出现桥接现象，光刻胶上的两个图形的中心点就会偏离初始掩膜版的套刻标记，从而可以判断焦点出现偏移；焦点偏移的程度增加，光刻胶上出现桥接的矩形的数目增加，测量得到中心点的偏移程度增加，所以利用本申请的掩膜版可以灵敏地、实时地判断焦点是否出现了偏移。

主权项

一种掩膜版，包括套刻标记，所述套刻标记具有至少两个图形，且各所述图形平行或垂直，其特征在于，各所述图形具有至少三个相互平行的矩形，各所述矩形的宽度不相等，相邻两个所述矩形之间具有间距。