[发明专利]一种潜伏型光致脱羧的光产碱剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201510179578.2 | 申请日： | 2015-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN104844564A | 公开（公告）日： | 2015-08-19 |
| 发明（设计）人： | 李治全;董晓庆;刘仁;刘敬成;刘晓亚 | 申请（专利权）人： | 江南大学 |
| 主分类号： | C07D335/16 | 分类号： | C07D335/16;C07D487/04;C08L63/00;C08K5/46;C08K5/3465;G03F7/004 |
| 代理公司： | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 | 代理人： | 冯智文 |
| 地址： | 214122 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种潜伏型光致脱羧的光产碱剂，该光产碱剂由蒽酮类化合物与强碱发生酸碱中和反应制得，具体步骤如下：在单口烧瓶中加入蒽酮类化合物与强碱，并加入四氢呋喃作为反应溶剂，25-30℃条件下，避光搅拌1小时后，离心得到下层无色或浅粉色的固体或油状液体，真空干燥后得到所述光产碱剂。本发明光产碱剂克服了现有光产碱剂碱性弱、量子产率低等问题，具有合成简单、量子产率高、碱性高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 潜伏 型光致脱羧 光产碱剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种潜伏型光致脱羧的光产碱剂，其特征在于所述光产碱剂具有如下结构通式：![]()
其中，R为氢原子、甲基或乙基；Y为S、N中的一种；B为下述几种强碱中的任一种；![]()
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