[发明专利]一种基于半导体工艺的平面型龙虾眼聚焦镜头的制备方法

摘要

本发明公开了一种基于半导体工艺的平面型龙虾眼聚焦镜头的制备方法，包括如下步骤：首先将n型Si片抛光研，利用氧化工艺或气相沉积在Si片上表面形成硬掩膜，并硬掩膜上利用光刻胶工艺曝光形成具有方形微孔阵列的掩膜；然后利用掩膜上的方形微孔对Si片进行刻蚀，形成刻蚀诱导坑；然后，去除硬掩膜，并在Si片背面镀上一层金属电极层，该金属电极层连接电源的正极；接着在Si片正面一定距离处放置金属电极板并连接电源的负极，板与Si片正面之间具有电解液；开启电源，并在Si片背面加以光照进行光电化学刻蚀；然后，除去Si片背面的金属电极，形成龙虾眼初步模型；最后，在龙虾眼初步模型各表面蒸镀金属反射层。该方法用于制备龙虾眼镜头。

主权项

一种基于半导体工艺的平面型龙虾眼聚焦镜头的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤(1)、将n型Si片，进行抛光研磨；步骤(2)、利用氧化工艺或气相沉积在Si片上表面形成硬掩膜；步骤(3)、在硬掩膜上利用光刻胶工艺曝光形成具有方形微孔阵列的掩膜；步骤(4)、利用掩膜上的方形微孔对Si片进行湿法刻蚀，在每个方形微孔处对应的Si片上形成带尖端的刻蚀诱导坑；Si片以带有刻蚀诱导坑的一面为正面；步骤(5)、去除硬掩膜，并在Si片背面镀上一层金属电极层，该金属电极层连接电源的正极；步骤(6)、在Si片正面一定距离处放置金属电极板，该金属电极板连接电源的负极，金属电极板与Si片正面之间具有电解液；开启电源，并在Si片背面加以光照，则由刻蚀诱导坑处至Si片背面经光电化学刻蚀形成通孔；步骤(7)、除去Si片背面的金属电极，形成龙虾眼初步模型；步骤(8)、在龙虾眼初步模型各表面蒸镀金属反射层。