[发明专利]基于热感生电场诱导流变直写的光栅制造方法

摘要

本发明公开了基于热感生电场诱导流变直写的光栅制造方法，栅线掩膜制造装置包括控制系统，热源，接收平台，热电材料，挤出平台，供液装置。光栅制造方法，步骤为1）将该图形结构转换为轮廓数据和填充数据；2）制造掩膜；3）形成保护膜；4）去除掩膜，清洗，在保护膜上形成栅线结构的凹槽即可。本发明的光栅制造方法，可以避免传统近场电纺直写技术的相关缺点例如电压阀值高，多针头直写的时候，容易产生干涉现象，以及容易产生简短放电现象，且所得掩膜的精度不高等。另外，本发明的光栅制造方法，不涉及化学腐蚀过程，工艺绿色简单且成本较低。

主权项

栅线掩膜制造装置，其特征在于：包括控制系统，热源，接收平台，热电材料，挤出平台，供液装置；其中，控制系统分别与热源、接收平台、挤出平台、供液装置相连；热源用于向热电材料提供热辐射以产生感生电场；供液装置与挤出平台相连并用于向挤出平台提供流动态高分子材料；挤出平台用于向接收平台输出流动态高分子材料；接收平台用于接收流动态高分子材料。