[发明专利]直线导轨

摘要

本发明涉及一种直线导轨，包括导轨体、滑块、以及设于该导轨体左端的缓冲器；缓冲器包括：缸体，在该缸体的开口端设有缸盖，由一活塞杆穿过该缸盖，且该活塞杆右端设有活塞体组件；活塞杆的左端与导轨体的左端固定连接；在缓冲工作时，缸体的右端面作为与滑块相碰撞的接触面；缸体的侧壁中设有电磁铁，活塞体组件的右端面上设有压力传感器，该压力传感器与一处理器模块相连；当滑块撞击缸体的右端部时，处理器模块适于根据介质压力值，控制一电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的电流，以吸合滑块；直至处理器模块测得介质压力值为均衡值时，控制电流驱动模块关闭输出电流，以释放滑块。

主权项

一种直线导轨，包括导轨体、滑动配合在该导轨体上的滑块、以及设于该导轨体左端的缓冲器，其特征在于所述缓冲器包括：呈圆筒形，且用于填充缓冲介质的缸体，在该缸体的左侧开口端密封设有缸盖，所述缸盖的中心通孔中活动密封配合有一活塞杆，该活塞杆的右端设有活塞体组件，该活塞体组件适于在所述缸体内做活塞运动；活塞杆的左端与所述导轨体的左端固定连接；在缓冲工作时，所述缸体的右端面作为与滑块相碰撞的接触面；所述缸体的右端面设有缓冲垫；所述缸体的侧壁中设有电磁铁，所述活塞体组件的右端面上设有用于检测介质压力的压力传感器，该压力传感器与一处理器模块相连；所述缸体的中心轴线与所述电磁铁的中心轴线平行；当所述滑块撞击所述缸体的右端部时，所述处理器模块适于根据介质压力值，控制一电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的电流，使所述电磁铁产生相应的磁场，以吸合所述滑块；直至所述处理器模块测得介质压力值为均衡值时，控制所述电流驱动模块关闭输出电流，使所述磁场消失，以释放所述滑块；所述活塞体组件与所述缸体的内壁活动密封配合；所述活塞体组件包括：同轴设置的左、右活塞体，该左、右活塞体上对称设有若干个用于使介质轴向流动的通孔，左、右活塞体的相邻端面之间的密封配合，以在做活塞运动时，介质仅通过所述左、右活塞体上的各通孔实现往返流动；所述通孔为多个，其分布可与左、右活塞体呈同心圆分布。