[发明专利]具有极紫外光谱纯度和抗辐照损伤的多层膜

摘要

本发明公开了一种具有极紫外光谱纯度和抗辐照损伤的多层膜，属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中极紫外多层膜在带外波段的反射率比较高，在高能量激光辐照下，极紫外波段的反射率严重下降的技术问题。本发明的多层膜从下至上依次包括基底、周期层、第一光谱纯化层、第一Mo层、第二光谱纯化层和抗辐照损伤层，其中，周期层的周期个数为40-60，每个周期由从下至上依次排列的Si层、第二Mo层组成，第一光谱纯化层与第二光谱纯化层的材料分别为C、SiC或Si₃N₄，抗辐照损伤层的材料为TiN或SiO₂。该极紫外多层膜能够提高极紫外光刻反射镜系统的成像质量和使用寿命，在极紫外波段的反射率为62-68.5％。

主权项

具有极紫外光谱纯度及抗辐照损伤的多层膜，其特征在于，从下至上依次包括基底(1)、周期层(2)、第一光谱纯化层(3)、第一Mo层(4)、第二光谱纯化层(5)和抗辐照损伤层(6)；所述周期层(2)的周期个数为40‑60，每个周期由从下至上依次排列的Si层(21)、第二Mo层(22)组成，所述Si层的厚度为4.1nm‑4.3nm，第二Mo层的厚度为2.7nm‑2.9nm；所述第一Mo层(4)的厚度为2.7nm‑2.9nm；所述第一光谱纯化层(3)与第二光谱纯化层(5)的材料相同或不同，分别为C、SiC或Si₃N₄，厚度分别为4.1nm‑4.3nm；所述抗辐照损伤层(6)的材料为TiN或SiO₂，厚度为1nm‑3nm。