[发明专利]X射线放大成像系统有效

专利信息
申请号: 201510191710.1 申请日: 2015-04-21
公开(公告)号: CN104833686B 公开(公告)日: 2018-07-06
发明(设计)人: 孙天希;孙学鹏;须颖;董友;刘志国 申请(专利权)人: 北京师范大学;天津三英精密仪器有限公司
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;G01N23/06
代理公司: 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 代理人: 苗源;李冬梅
地址: 100875 北京市海淀区新街*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种X射线放大成像系统,该X射线放大成像系统包括:X射线光源;X射线光源透镜,其入口端设置有X射线光源,用于会聚X射线光源发射的X射线并得到用于照射样品的微焦斑相干光源;相位放大光栅,设置于样品之后,用于收集并调制照射样品后的X射线并产生衍射自成像效应;分析吸收放大光栅,设置于相位放大光栅之后,位于衍射自成像效应对应的自成像平面位置处,分析吸收放大光栅用于收集并处理来自相位放大光栅的X射线,将其中的相位信息转换为可识别的光强信息;X射线探测器,设置在分析吸收放大光栅之后,靠近分析吸收放大光栅的出口端,用于探测并收集样品的信息。本发明能大幅提高该X射线放大成像系统的分辨率和使用范围。
搜索关键词: 光栅 放大 放大成像 自成像 吸收 衍射 分析 照射 透镜 光强信息 平面位置 相干光源 相位信息 出口端 分辨率 可识别 入口端 微焦斑 调制 会聚 探测 发射 转换
【主权项】:
1.一种X射线放大成像系统,其特征在于,包括:X射线光源(1);X射线光源透镜(2),其入口端设置有所述X射线光源(1),用于会聚所述X射线光源(1)发射的X射线并得到用于照射样品(4)的微焦斑相干光源(3);相位放大光栅(5),设置于所述样品(4)之后,用于收集并调制照射所述样品(4)后的X射线并产生衍射自成像效应;分析吸收放大光栅(6),设置于所述相位放大光栅(5)之后,位于所述衍射自成像效应对应的自成像平面位置处,所述分析吸收放大光栅(6)用于收集并处理来自所述相位放大光栅(5)的X射线,将其中的相位信息转换为可识别的光强信息;X射线探测器(7),设置在所述分析吸收放大光栅(6)之后,靠近所述分析吸收放大光栅(6)的出口端,用于探测并收集所述样品(4)的信息;其中,所述相位放大光栅(5)和分析吸收放大光栅(6)为多毛细管X射线光栅,分别由多根硅酸盐玻璃或铅玻璃单毛细管拉制而成;所述相位放大光栅(5)和分析吸收放大光栅(6)沿各自长度方向上的外形为锥形面段、抛物线型面段或者其它二次曲面段;所述相位放大光栅(5)和所述分析吸收放大光栅(6)的光栅周期范围为0.01‑20微米,高宽比的范围为10‑100000;所述相位放大光栅(5)和所述分析吸收放大光栅(6)沿垂直于各自中心对称轴线的界面的直径范围为1‑800毫米。
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