[发明专利]一种多孔结构二氧化钒薄膜的制备方法及应用有效
| 申请号： | 201510195664.2 | 申请日： | 2015-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN104775101B | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 陶海征;朱本钦;赵修建 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/58;C23C14/08 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 | 代理人： | 邬丽明 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多孔结构二氧化钒薄膜的制备方法及应用。采用磁控溅射的方法，用石墨靶和金属钒靶，制备C掺杂金属钒膜；再将掺C的金属钒膜至于退火炉中，在大气条件下退火，得到有相变效果的多孔二氧化钒薄膜。通过控制两个靶材的溅射功率来调整C掺杂量，依据C掺杂量和金属钒膜的厚度选择最佳退火温度、退火时间，可以得到性能优异的二氧化钒薄膜，红外透过率调节幅度达到45％，可见光透过率可达70％。本发明采用的基片为普通玻璃、石英玻璃及透明导电氧化物玻璃，在智能窗、光存储器件与光电开关等领域具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多孔 结构 氧化 薄膜 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种多孔结构二氧化钒薄膜的制备方法，其特征在于，它包括以下步骤：1) 对基片表面进行清洗；2) 利用磁控溅射在基片表面制备V/C复合薄膜，背底真空抽至3.0×10‑3Pa，通入氩气至工作气压为1~2.2Pa，溅射功率为77~300W，溅射时间为2~60min；3）对制备好的V/C复合薄膜退火得到具有相变性能的多孔二氧化钒薄膜，其中退火温度400~600℃，退火时间30~90min，所述退火气氛为空气气氛。
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