[发明专利]一种高光学纯度的阿普司特的制备方法、所得产品及其应用有效

专利信息
申请号: 201510197150.0 申请日: 2015-04-23
公开(公告)号: CN106146384B 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 龚登凰;王洁;盖京华;郝乐;孙文娇;杨杰;雷亚丽;刘希;马玉秀 申请(专利权)人: 石药集团中奇制药技术(石家庄)有限公司
主分类号: C07D209/48 分类号: C07D209/48;A61K31/4035;A61P17/06;A61P19/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 050035 河北省石家*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种高光学纯度的式I所示的阿普司特的制备方法、所得产品及其应用。本发明的阿普司特的制备方法,通过在以化合物IV和化合物V为反应原料、冰醋酸为反应溶媒的缩合反应中,使用选自无水硫酸镁、无水硫酸钠、无水氯化钙、无水硫酸铜或无水分子筛等催化剂,使得本发明的阿普司特的制备方法具有高效、高收率、高光学纯度的特点,更适合工业化生产;所得阿普司特产品光学纯度高,作为原料药制备成药品,将具有更好的疗效,从而提高患者的治疗依从性。
搜索关键词: 一种 光学 纯度 阿普司特 制备 方法 所得 产品 及其 应用
【主权项】:
一种高光学纯度的式I所示的阿普司特的制备方法,其特征在于,在以化合物IV和化合物V为反应原料、冰醋酸为反应溶媒的缩合反应中使用催化剂,其中,所述催化剂选自无水硫酸镁、无水硫酸钠、无水氯化钙、无水硫酸铜或无水分子筛,
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