[发明专利]掩模板、散焦量的测试方法及其测试系统

摘要

本发明提供一种掩模板、散焦量的测试方法及其测试系统，所述掩模板上具有测试图形，所述测试图形包括：基准光栅图形组，所述基准光栅图形组包括多个平行排布的第一条状图形；测试光栅图形组，所述测试光栅图形组包括多个平行排布的第二条状图形，每个所述第二条状图形包括平行排布的一条基准条形和若干条测试条形，所述第一条状图形和基准条形的宽度大于所述测试条形的宽度，所述第一条状图形和第二条状图形沿同一方向延伸。采用本发明提供的测试图形，能够在实际生产中，在晶圆上与实际需求的图形同步地形成测试结构。采用现有的套刻精度测量设备对测试标记中，基准标记与测试标记之间的位置偏移量进行测试，能够得到所述晶圆的散焦量。

主权项

一种掩模板，所述掩模板上具有测试图形，用于在晶圆上形成测试结构，以测试晶圆的散焦量，其特征在于，所述测试图形包括：基准光栅图形组，包括多个平行排布的第一条状图形；测试光栅图形组，包括多个平行排布的第二条状图形，所述第二条状图形和第一条状图形沿同一方向延伸，每一所述第二条状图形包括一条基准条形和若干测试条形，所述基准条形和所述若干测试条形平行排布，所述基准条形的宽度大于所述测试条形的宽度。