[发明专利]一种采用投影运算和反投影方法的快速成型方法有效
| 申请号： | 201510204357.6 | 申请日： | 2015-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN104786503A | 公开（公告）日： | 2015-07-22 |
| 发明（设计）人： | 吴翔 | 申请（专利权）人： | 吴翔 |
| 主分类号： | B29C67/00 | 分类号： | B29C67/00;B33Y50/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100000 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种采用投影运算和反投影方法的快速成型方法。属于快速成型领域、增材制造领域、3D打印领域。现有涉及光固化的快速成型技术都以逐层曝光，层层叠加的方法实现快速成型。一个成型物体各处含有一致的物理量(比如颜色)，或者一个成型物体各处含有不一致的物理量但这些物理量不受控制。计算机断层扫描(CT)技术完成的是投影数据采集和断层图像重建，过程中运用“投影运算”和反投影方法。本发明借鉴计算机断层扫描(CT)技术的“投影运算”和反投影方法，在快速成型技术中实现多层同时曝光，节省时间，加快生产。本发明能够控制成型物体各处的物理量，这一特性还取决于成型物质的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 投影 运算 方法 快速 成型 | ||
【主权项】：
一种快速成型方法，使用投影运算和反投影方法。
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