[发明专利]使用PI3K和MEK调控剂的方法在审

专利信息
申请号: 201510204883.2 申请日: 2007-08-16
公开(公告)号: CN104784695A 公开(公告)日: 2015-07-22
发明(设计)人: 达纳·T·阿夫塔布;A·D·莱尔德;彼得·拉姆;让-弗朗索瓦·A·马蒂尼 申请(专利权)人: 埃克塞利希斯股份有限公司
主分类号: A61K45/06 分类号: A61K45/06;A61K31/498;A61K31/519;A61K31/397;A61P35/00
代理公司: 北京坤瑞律师事务所 11494 代理人: 王国祥
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了利用抑制激酶、更具体的说抑制MEK和PI3K的化合物的组合来治疗癌症的方法。
搜索关键词: 使用 pi3k mek 调控 方法
【主权项】:
由式Ia、Ic、Id、II或V的化合物或其可药用组合物以及选自式VIa、VIb、VII、VIIIa和VIIIb的化合物或其可药用组合物组成的药物组合在制备治疗癌症的药物中的应用,其中式Ia如下所示:并且任选地为其可药用盐或溶剂化物,其中A环表示亚芳基或杂亚芳基,并且A环任选地被选自R10、R12、R14和R16的一个、两个、三个或四个基团取代,其中R10、R12、R14和R16独立地是氢、低级烷基、低级烯基、低级炔基、卤素、卤代烃氧基、羟基、低级烃氧基、氨基、烃基氨基、二烃基氨基、卤代烃基、‑NHS(O)2R8、‑CN、‑C(O)R8、‑C(O)OR8、‑C(O)NR8R8’或‑NR8C(O)R8’;X是低级烃基、卤素、卤代烃基或卤代烃氧基;R1、R2、R3、R4、R5和R6独立地是氢、卤素、硝基、‑NR8R8’、‑OR8、‑NHS(O)2R8、‑CN、‑S(O)mR8、‑S(O)2NR8R8’、‑C(O)R8、‑C(O)OR8、‑C(O)NR8R8’、‑NR8C(O)OR8’、‑NR8C(O)NR8’R8”、‑NR8C(O)OR8’、‑NR8C(O)R8’、低级烷基、低级烯基、低级炔基、环烃基、杂芳基或杂环烃基;其中所述低级烷基、低级烯基、低级炔基、环烃基、杂芳基和杂环烃基任选地被独立地选自卤素、低级烷基、卤代烃基、硝基、任选地被取代的环烃基、任选地被取代的杂环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的芳基烃基、任选地被取代的杂芳基、‑OR8、‑NR8R8’、‑NHS(O)2R9、‑CN、‑S(O)mR9、‑C(O)R8、‑C(O)OR8、‑C(O)NR8R8’、‑NR8C(O)NR8’R8”、‑NR8C(O)OR8’和‑NR8C(O)R8’的一个、两个、三个、四个、五个、六个或七个基团取代;或者R1和R2与它们所连接的碳一起、R3和R4与它们所连接的碳一起、以及R5和R6与它们所连接的碳一起,以上选项中的一种形成C(O)或C(=NOH);m是1或2;R7是氢、卤素或低级烃基;和R8、R8’和R8”独立地是氢、羟基、烃氧基、取代烃氧基、低级烷基、卤代烃基、低级烯基、低级炔基、芳基、环烃基、杂芳基或杂环烃基;其中所述低级烷基、低级烯基、低级炔基、芳基、环烃基、杂芳基和杂环烃基独立任选地被选自低级烷基、卤素、羟基、羟基烃基、低级烃氧基、取代烃氧基、烃氧基烃基、卤代烃基、羧基、羧基酯、硝基、氰基、‑S(O)nR31(其中n是0、1或2,R31是烃基、被取代的烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂环烃基或任选地被取代的杂芳基)、‑NR34SO2R34a(其中R34是氢或低级烃基,R34a是低级烃基、低级烯基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂环烃基、任选地被取代的环烃基或任选地被取代的杂芳基)、‑SO2NR35R35a(其中R35是氢或烃基,R35a是低级烃基、低级烯基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂环烃基、任选地被取代的环烃基或任选地被取代的杂芳基)、任选地被取代的环烃基、任选地被取代的杂环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的芳基烃基、芳氧基、芳基烃氧基、任选地被取代的杂芳基、‑NHC(O)R32(其中R32是低级烷基、低级烯基、烃氧基或环烃基)和‑NR30R30’(其中R30和R30’独立地是氢、低级烃基或羟基烃基)和‑C(O)NHR33(其中R33是低级烷基、低级烯基、低级炔基或环烃基)的一个、两个、三个、四个或五个基团取代;R9是低级烷基、低级烯基、低级炔基、芳基、环烃基、杂芳基或杂环烃基;其中所述低级烷基、低级烯基、低级炔基、芳基、环烃基、杂芳基和杂环烃基独立任选地被选自低级烷基、卤素、羟基、卤代烃氧基、卤代烃基、氨基、烃基氨基和二烃基氨基的一个、两个、三个、四个或五个基团取代;其中式Ic如下所示:并且任选地为其可药用盐或溶剂化物,其中R10、R12、R14和R16独立地是氢、低级烷基、卤素、卤代烃氧基、羟基、低级烃氧基或卤代烃基;X是卤素;R3是氢、卤素、硝基、‑NR8R8’、‑OR8、‑NHS(O)2R8、‑CN、‑S(O)mR8、‑S(O)2NR8R8’、‑C(O)R8、‑C(O)OR8、‑C(O)NR8R8’、‑NR8C(O)OR8’、‑NR8C(O)NR8’R8”、‑NR8C(O)OR8’、‑NR8C(O)R8’、低级烷基、低级烯基、低级炔基、环烃基、杂芳基或杂环烃基;其中所述低级烷基、低级烯基、低级炔基、环烃基、杂芳基和杂环烃基任选地被独立地选自卤素、低级烷基、卤代烃基、硝基、任选地被取代的环烃基、任选地被取代的杂环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的芳基烃基、任选地被取代的杂芳基、‑OR8、‑NR8R8’、‑NHS(O)2R9、‑CN、‑S(O)mR9、‑C(O)R8、‑C(O)OR8、‑C(O)NR8R8’、‑NR8C(O)NR8’R8”、‑NR8C(O)OR8’和‑NR8C(O)R8’的一个、两个、三个、四个、五个、六个或七个基团取代;R7是氢、卤素或低级烃基;R8、R8’和R8”独立地是氢、羟基、烃氧基、取代烃氧基、低级烷基、卤代烃基、低级烯基、低级炔基、芳基、环烃基、杂芳基或杂环烃基;其中所述低级烷基、低级烯基、低级炔基、芳基、环烃基、杂芳基和杂环烃基独立任选地被独立地选自低级烷基、卤素、羟基、羟基烃基、低级烃氧基、取代烃氧基、烃氧基烃基、卤代烃基、羧基、羧基酯、硝基、氰基、‑S(O)nR31(其中n是0、1或2,R31是烃基、被取代的烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂环烃基或任选地被取代的杂芳基)、‑NR34SO2R34a(其中R34是氢或低级烃基,R34a是低级烃基、低级烯基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂环烃基、任选地被取代的环烃基或任选地被取代的杂芳基)、‑SO2NR35R35a(其中R35是氢或烃基,R35a是低级烃基、低级烯基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂环烃基、任选地被取代的环烃基或任选地被取代的杂芳基)、任选地被取代的环烃基、任选地被取代的杂环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的芳基烃基、芳氧基、芳基烃氧基、任选地被取代的杂芳基、‑NHC(O)R32(其中R32是低级烷基、低级烯基、烃氧基或环烃基)和‑NR30R30’(其中R30和R30’独立地是氢、低级烃基或羟基烃基)和‑C(O)NHR33(其中R33是低级烷基、低级烯基、低级炔基或环烃基)中的一个、两个、三个、四个或五个基团取代;以及R9是低级烷基、低级烯基、低级炔基、芳基、环烃基、杂芳基或杂环烃基;其中所述低级烷基、低级烯基、低级炔基、芳基、环烃基、杂芳基和杂环烃基独立任选地被选自低级烷基、卤素、羟基、卤代烃氧基、卤代烃基、氨基、烃基氨基和二烃基氨基的一个、两个、三个、四个或五个基团取代;其中式Id如下所示:并且任选地为其可药用盐或溶剂化物,其中X、R7、R10、R12、R14、R16、R3、R8和R8’与以上式Ic中定义相同;其中式II如下所示:并且任选地为其可药用盐或溶剂化物,其中X、R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7与以上式Ia中定义相同;其中式V如下所示:并且任选地为其可药用盐或溶剂化物,其中所述A环、R3、R4和R7与以上式Ia中定义相同;其中式VIa如下所示:并且任选地为其可药用盐或水合物,其中R1是氢、任选地被取代的C1‑C6烃基、任选地被取代的C3‑C7环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂脂环基、任选地被取代的杂脂环基烃基、任选地被取代的杂芳基或任选地被取代的杂芳基烃基;X是‑NR3‑;R2是氢、任选地被取代的C1‑C6烃基、C3‑C7环烃基、芳基、芳基‑C1‑6烃基、杂脂环基、杂环基烃基、杂环基‑芳基‑或杂芳基;其中R2中的所述环烃基、芳基、芳基‑C1‑6烃基、杂脂环基、杂环基烃基、杂环基‑芳基‑和杂芳基任选地被1、2、3或4个R8基团取代;R3是氢;R4是任选地被取代的C1‑C6烃基;R6是氢、酰基、苯基、杂脂环基或杂芳基;其中R6中的所述苯基、杂脂环基和杂芳基任选地被1、2、3或4个R9基团取代;R8在每次出现时独立地是羟基、卤素、卤代烃基、C1‑C6烃基、任选地被取代的C1‑C6烃氧基、C1‑C6烃氧基烃基、C1‑C6烃氧基烃基氨基烃基、C1‑C6烃基羧基杂环基、‑O‑C1‑C6烃基杂环基、氨基烃基、任选地被取代的C3‑C7环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的芳基C1‑C6烃基、任选地被取代的杂脂环基、任选地被取代的杂脂环基烃基、任选地被取代的杂芳基或任选地被取代的杂芳基烃基;以及R9在每次出现时独立地是卤素、卤代烃基、卤代烃氧基、C1‑C6烃基、C1‑C6烃氧基、C1‑C6烃氧基烃基、C1‑C6羧基烃基、烷氧基羰基、氨基烃基、任选地被取代的C3‑C7环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的芳基C1‑C6烃基、任选地被取代的芳氧基、任选地被取代的杂脂环基或任选地被取代的杂芳基;其中式VIb如下所示:并且任选地为其可药用盐或溶剂化物,其中R1是氢、任选地被取代的C1‑C6烃基、任选地被取代的C3‑C7环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂脂环基、任选地被取代的杂脂环基烃基、任选地被取代的杂芳基或任选地被取代的杂芳基烃基;R6是苯基、酰基或杂芳基,其中所述苯基和杂芳基任选地被1、2、3或4个R9基团取代;以及R9在每次出现时独立地是卤素、卤代烃基、卤代烃氧基、C1‑C6烃基、C1‑C6烃氧基、C1‑C6烃氧基烃基、C1‑C6羧基烃基、烷氧基羰基、氨基烃基、任选地被取代的C3‑C7环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的芳基C1‑C6烃基、芳氧基、任选地被取代的杂脂环基或任选地被取代的杂芳基;其中式VII如下所示:R1是氢、任选地被取代的C1‑C6烃基、任选地被取代的C3‑C7环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂脂环基、任选地被取代的杂脂环基烃基、任选地被取代的杂芳基或任选地被取代的杂芳基烃基;X是‑NR3‑;R3是氢;R4是任选地被取代的C1‑C6烃基;R5是氢;R6是酰基且R2是任选地被1、2、3或4个R8基团取代的杂环基‑芳基‑;或者R6是卤素且R2是任选地被取代的C1‑C6烃基、C3‑C7环烃基、苯基、芳基‑C1‑6烃基、杂脂环基烃基或杂环基‑芳基‑;其中R2中的所述C3‑C7环烃基、苯基、苯基、芳基‑C1‑6烃基、杂脂环基烃基和杂环基‑芳基‑任选地被1、2、3或4个R8基团取代;或者R6是任选地被1、2或3个卤素取代的苯基;且R2是苯基或杂环基‑芳基‑;其中R2中的所述苯基和杂环基‑芳基‑任选地被1、2、3或4个R8基团取代;或者R6是任选地被1、2或3个卤素取代的杂芳基;且R2是任选地被1、2、3、4或5个R8基团取代的杂环基‑芳基‑;在每种情况下每个R8独立地是羟基、卤素、C1‑C6烃基、卤代烃基、任选地被取代的C1‑C6烃氧基、C1‑C6烃氧基烃基、C1‑C6烷氧基羰基、C1‑C6烃氧基烃基氨基烃基、‑O‑C1‑C6烃基杂环基、氨基烃基、任选地被取代的C3‑C7环烃基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的芳基C1‑C6烃基、任选地被取代的杂脂环基、任选地被取代的杂脂环基烃基、任选地被取代的杂芳基或任选地被取代的杂芳基烃基;其中式VIIIa如下所示:或是其可药用盐或溶剂化物,其中W1、W2、W3和W4是‑C(R1)‑,或者W2和W3是‑C(R1)‑且W1和W4之一是‑N‑而另一个是‑C(R1)‑;X是‑N(R5)‑;A是芳基、杂芳基或杂环烃基,其中所述芳基、杂芳基和杂环烃基任选地被(R2)n1取代;或者B是芳基、‑C1‑C6烃基芳基、杂芳基或杂环烃基,其中所述芳基、C1‑C6‑烃基、杂芳基和杂环烃基独立任选地被(R3)n2取代;n1是0、1、2或3;n2是0或者是1至5的整数;每个R1独立地是氢、C1‑C6‑烃基、卤代烃基、C1‑C6‑烃氧基、卤代烃氧基或‑NO2;当R2存在时,每个R2独立地是‑C1‑C6‑烷基、‑C1‑C6‑烯基、‑OR6、‑N(R7)‑C(O)‑R6、‑N(R7)‑C(O)‑C0‑C6烃基‑N(R7b)R7a、‑OC(O)‑C0‑C6烃基‑N(R7)R7a、‑C0‑C6烃基‑C(O)R6、杂环烃基、芳基、卤素、‑NO2或‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)R7a,其中单独或作为R2中其它基团的一部分的每个烃基、芳基和杂环烃基独立任选地被选自C1‑C6‑烃基、C1‑C6‑烃氧基、卤素、卤代烃基和卤代烃氧基的一个、两个、三个、四个或五个基团取代;当R3存在时,每个R3独立地是羟基、‑NO2、卤素、‑CN、C1‑C6‑烷基、C2‑C6‑烯基、C1‑C6烃氧基、‑C0‑C6烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7b)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7b)C(O)R7a、‑C0‑C6烃基‑C(O)N(R7)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)N(R7)‑C1‑C6‑烃基‑C(O)OR7a、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)‑C(O)‑C0‑C6‑烃基‑(R7)、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7b)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7c)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)O‑C0‑C6‑烃基‑N(R7b)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)‑C0‑C6烃基‑C(=N(R7b)(R7a))(NR7cR7d)、‑C0‑C6‑烃基‑杂芳基、‑C0‑C6‑烃基‑OR6、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)OR6、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)‑NR7R7a、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)‑R7、‑S(O)2R7、‑SO2N(R7)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)‑杂环烃基(C(O)R7的复制体)、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)N(R7)‑C0‑C6‑烃基‑杂环烃基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑环烃基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)‑C(O)‑C0‑C6‑烃基‑芳基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)‑C(O)‑C0‑C6‑烃基‑杂芳基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑杂环烃基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑杂环烃基‑芳基或‑N(R7)C(O)R7a,其中单独或作为R3中其它基团的一部分的每个烃基、烷基、烯基、环烃基、芳基、烃氧基、杂环烃基和杂芳基独立任选地被选自C1‑C6‑烷基、C1‑C6烯基、环烃基、卤素、‑C(O)‑R6、氧代、羟基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R8)R8a、‑C0‑C6‑烃基‑杂环烃基、‑C0‑C6‑烃基‑芳基、‑C0‑C6‑烃基‑杂芳基、‑C(O)OR6和羟基烃基的1、2、3、4或5个基团取代;R4是氢;R5是氢;R6和R9独立地是氢、C1‑C6‑烃基、芳基、芳基烃基或环烃基,其中每个‑C1‑C6‑烃基、芳基、芳基烃基和环烃基独立任选地被选自C1‑C6‑烃氧基、C1‑C6‑烃基和卤素的1、2、3、4或5个基团取代;和R7、R7a、R7b、R7c和R7d独立地是氢、‑C1‑C6‑烷基、‑C1‑C6‑烯基、‑OH、‑O‑C1‑C6烷基、‑O‑C1‑C6烯基、‑O‑C0‑C6‑烃基‑芳基、芳基、芳基烃基、杂芳基、杂芳基烃基、环烃基、环烃基烃基、杂环烃基或杂环烃基烃基,其中单独或作为R7、R7aR7b、R7c和R7d中其它基团的一部分的每个烃基、芳基、杂芳基和杂环烃基独立任选地被1、2、3、4或5个‑NH2、烃基氨基、二烃基氨基、‑S‑C1‑C6‑烃基、‑CN、羟基、氧代、C1‑C6烃氧基、C1‑C6烃基或卤素取代;且其中式VIIIb如下所示:或是其可药用盐或溶剂化物,其中n1是1或2;且n2是1或2;n3是0、1或2;每个R1独立地是氢、C1‑C6‑烃基、卤代烃基、C1‑C6‑烃氧基、卤代烃氧基、‑NO2、卤素、羟基、羟基烃基、‑CN、氰基烃基或‑C0‑C6烃基‑N(R10)R10a,其中R10和R10a独立地是氢、‑C1‑C6‑烃基、‑OH、‑O‑C1‑C6烃基、卤代烃基或卤代烃氧基;当R2存在时,每个R2独立地是C1‑C6‑烷基、C1‑C6‑烯基、‑OR6、‑N(R7)‑C(O)‑R6、‑N(R7)‑C(O)‑C0‑C6烃基‑N(R7b)R7a、‑OC(O)‑C0‑C6烃基‑N(R7)R7a、‑C0‑C6烃基‑C(O)R6、杂环烃基、芳基、卤素、‑NO2或‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)R7a,其中,其中单独或作为R2中其它基团的一部分的每个烃基、芳基和杂环烃基独立任选地被选自C1‑C6‑烃基、C1‑C6‑烃氧基、卤素、卤代烃基和卤代烃氧基的一个、两个、三个、四个或五个基团取代;当R3存在时,每个R3独立地是羟基、‑NO2、卤素、‑CN、C1‑C6‑烷基、C2‑C6‑烯基、C1‑C6烃氧基、‑C0‑C6烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7b)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7b)C(O)R7a、‑C0‑C6烃基‑C(O)N(R7)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)N(R7)‑C1‑C6‑烃基‑C(O)OR7a、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)‑C(O)‑C0‑C6‑烃基‑(R7)、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7b)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7c)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)O‑C0‑C6‑烃基‑N(R7b)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)‑C0‑C6烃基‑C(=N(R7b)(R7a))(NR7cR7d)、‑C0‑C6‑烃基‑杂芳基、‑C0‑C6‑烃基‑OR6、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)OR6、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)‑NR7R7a、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)‑R7、‑S(O)2R7、‑SO2N(R7)‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)R7a、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)‑杂环烃基(C(O)R7复制体)、‑C0‑C6‑烃基‑C(O)N(R7)‑C0‑C6‑烃基‑杂环烃基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑环烃基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)‑C(O)‑C0‑C6‑烃基‑芳基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)‑C(O)‑C0‑C6‑烃基‑杂芳基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑杂环烃基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R7)C(O)‑C0‑C6‑烃基‑杂环烃基‑芳基或‑N(R7)C(O)R7a,其中,其中单独或作为R3中其它基团的一部分的每个烃基、烷基、烯基、环烃基、芳基、烃氧基、杂环烃基和杂芳基独立任选地被选自C1‑C6‑烷基、C1‑C6烯基、环烃基、卤素、‑C(O)‑R6、氧代、羟基、‑C0‑C6‑烃基‑N(R8)R8a、‑C0‑C6‑烃基‑杂环烃基、‑C0‑C6‑烃基‑芳基、‑C0‑C6‑烃基‑杂芳基、‑C(O)OR6和羟基烃基的1、2、3、4或5个基团取代;R4是氢;R5是氢;R6是氢、C1‑C6‑烃基、芳基、芳基烃基或环烃基,其中每个‑C1‑C6‑烃基、芳基、芳基烃基和环烃基独立任选地被选自C1‑C6‑烃氧基、C1‑C6‑烃基和卤素1、2、3、4或5个基团取代;和R7、R7a、R7b、R7c和R7d独立地是氢、‑C1‑C6‑烷基、‑C1‑C6‑烯基、‑OH、‑O‑C1‑C6烷基、‑O‑C1‑C6烯基、‑O‑C0‑C6‑烃基‑芳基、芳基、芳基烃基、杂芳基、杂芳基烃基、环烃基、环烃基烃基、杂环烃基或杂环烃基烃基,其中单独或作为R3中其它基团的一部分的每个烃基、芳基、杂芳基和杂环烃基独立任选地被1、2、3、4或5个‑NH2、烃基氨基、二烃基氨基、‑S‑C1‑C6‑烃基、‑CN、羟基、氧代、C1‑C6烃氧基、C1‑C6烃基或卤素取代。
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