[发明专利]一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置

摘要

一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置，属于短波光学领域，为解决现有技术存在的光学元件表面的氧化，损伤光学元件表面，清洗速率较低的问题，该装置氢原子发射器、第一反射率计、分子泵、第二反射率计、射频等离子体电镜清洗仪接口安装在清洗腔外部与其端口密封、紧固，工作距离调整滑台通过支撑架与氢原子发射器联接，样品台设置在清洗腔内侧底部中心处，石英天平和样品设置在样品台上，入射角度调整转台从清洗腔底部与样品台联接；该清洗方法可实现对样品的粗精清洗，不仅避免清洗对样品造成损伤，而且提高清洗效率，通过对工作距离、入射角度的调节，实现对清洗过程的优化控制；本发明保证样品表面质量不受破坏，而且提高了碳污染清洗速率。

主权项

一种光学元件表面碳污染清洗装置，其包括：氢原子发射器(1)、工作距离调整滑台(2)、第一反射率计(3)、石英天平(4)、清洗腔(5)、入射角度调整转台(7)、分子泵(8)第二反射率计(9)、射频等离子体电镜清洗仪(10)和样品台(6)，其特征是，氢原子发射器(1)、第一反射率计(3)、分子泵(8)、第二反射率计(9)、射频等离子体电镜清洗仪(10)接口安装在清洗腔(5)外部与其端口密封、紧固，工作距离调整滑台(2)通过支撑架与氢原子发射器(1)联接，样品台(6)设置在清洗腔(2)内侧底部中心处，石英天平(4)和样品设置在样品台(6)上，入射角度调整转台(7)从清洗腔(5)底部与样品台(6)联接。