[发明专利]电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备、和酞菁晶体及其制造方法有效
申请号: | 201510212933.1 | 申请日: | 2015-04-29 |
公开(公告)号: | CN105022240B | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 久野纯平;西田孟;田中正人;川原正隆;渡口要 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G5/06 | 分类号: | G03G5/06;G03G21/18;G03G15/00;C30B29/54;C07D487/22 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备、和酞菁晶体及其制造方法。提供一种能够输出抑制了正重影的图像的电子照相感光构件,和各自具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。所述电子照相感光构件具有感光层,所述感光层包括酞菁晶体,在所述酞菁晶体中含有由式(1)表示的化合物的,其中由式(1)表示的化合物的含量基于酞菁晶体为0.1质量%以上且1.7质量%以下。 | ||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 构件 及其 制造 方法 处理 设备 晶体 | ||
【主权项】:
1.一种电子照相感光构件,其包括:支承体;和在所述支承体上的感光层;其特征在于,所述感光层包括酞菁晶体,在所述酞菁晶体内含有由下式(1)表示的化合物,
其中,在式(1)中X表示氢原子或者具有1或2个碳原子的烷基,和其中,所述由式(1)表示的化合物的含量基于所述酞菁晶体中的酞菁为0.1质量%以上且1.7质量%以下。
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