[发明专利]一种抛射式打磨结构在审
| 申请号： | 201510214942.4 | 申请日： | 2015-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN104772709A | 公开（公告）日： | 2015-07-15 |
| 发明（设计）人： | 黄尚进 | 申请（专利权）人： | 黄尚进 |
| 主分类号： | B24C5/06 | 分类号： | B24C5/06;B24C5/00 |
| 代理公司： | 湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙) 33232 | 代理人： | 赵卫康 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种抛射式打磨结构，涉及打磨设备领域。包括机壳、抛射装置以及进料口，所述机壳包括设置在所述抛射装置前方的抛射开口、设置在抛射装置两侧方的阻挡部以及设置在所述抛射装置后方的背侧部，所述进料口设置在所述阻挡部或背侧部上；所述抛射装置与所述机壳转动连接。本发明具有能提升打磨效率，提高打磨面一致性的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛射 打磨 结构 | ||
【主权项】：
一种抛射式打磨结构，其特征在于：包括机壳（1）、抛射装置（2）以及进料口（3），所述机壳（1）包括设置在所述抛射装置（2）前方的抛射开口（101）、设置在抛射装置（2）两侧方的阻挡部（103）以及设置在所述抛射装置（2）后方的背侧部（102），所述进料口（3）设置在所述阻挡部（103）或背侧部（102）上；所述抛射装置（2）与所述机壳（1）转动连接。
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