[发明专利]一种MEMS光阀及其制作方法、显示基板和显示装置在审
申请号: | 201510217390.2 | 申请日: | 2015-04-30 |
公开(公告)号: | CN104765143A | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | 姚琪;张锋;曹占锋;何晓龙;张斌;高锦成;孔祥春;李正亮;张伟 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02B26/02 | 分类号: | G02B26/02;G09G3/34 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种MEMS光阀及其制作方法、显示基板和显示装置。该MEMS光阀包括:相对设置的固定光栅和可动光栅以及用于控制所述可动光栅移动的控制部,所述固定光栅和所述可动光栅均包括至少两个光栅偏振片,所述光栅偏振片包括多条平行设置的狭缝,所述狭缝为纳米级尺寸,所述至少两个光栅偏振片中相邻的两个光栅偏振片的狭缝的延伸方向垂直,所述控制部通过控制所述可动光栅移动以控制所述MEMS光阀的透光率。采用本发明的MEMS光阀的显示装置,可以提高背光源的利用率。 | ||
搜索关键词: | 一种 mems 及其 制作方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】:
一种MEMS光阀,其特征在于,包括:相对设置的固定光栅和可动光栅以及用于控制所述可动光栅移动的控制部,所述固定光栅和所述可动光栅均包括至少两个光栅偏振片,所述光栅偏振片包括多条平行设置的狭缝,所述狭缝为纳米级尺寸,所述至少两个光栅偏振片中相邻的两个光栅偏振片的狭缝的延伸方向垂直,所述控制部通过控制所述可动光栅移动以控制所述MEMS光阀的透光率。
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