[发明专利]一种内热式化学气相渗透致密C/C坩埚的工装及方法

摘要

本发明公开了一种内热式化学气相渗透致密C/C坩埚的工装，包括石墨支撑座、石墨发热体、石墨防污管、石墨保温筒、石墨顶盖和位于石墨保温筒内的石墨支撑筒，石墨支撑座设置于真空电阻沉炭炉的炉底上方，石墨发热体穿过石墨支撑座中部安装于炉底中心部位，石墨防污管套装于石墨发热体上，石墨保温筒和石墨支撑筒均设置于石墨支撑座上，石墨顶盖设置于石墨保温筒上方且套装在石墨防污管上，所述石墨保温筒内设置有用于化学气相渗透致密C/C坩埚预制体的反应室。另外，本发明还公开了采用该工装化学气相渗透致密C/C坩埚的方法。本发明的工装结构简单，设计合理。采用本发明工装和方法致密的C/C坩埚均匀性好，密度达1.5g/cm3以上。

主权项

一种内热式化学气相渗透致密C/C坩埚的工装，其特征在于，包括石墨支撑座(4)、石墨发热体(3)、石墨防污管(5)、石墨保温筒(7)、石墨顶盖(11)和位于石墨保温筒(7)内的石墨支撑筒(6)，石墨支撑座(4)设置于真空电阻沉炭炉的炉底(1)上方，石墨发热体(3)穿过石墨支撑座(4)中部安装于炉底(1)中心部位，石墨防污管(5)套装于石墨发热体(3)上，石墨保温筒(7)和石墨支撑筒(6)均设置于石墨支撑座(4)上，石墨顶盖(11)设置于石墨保温筒(7)上方且套装在石墨防污管(5)上，所述石墨支撑座(4)与真空电阻沉炭炉的炉壳(10)之间以及石墨保温筒(7)与真空电阻沉炭炉的炉壳(10)之间均设置有保温炭毡(9)，所述石墨保温筒(7)内设置有用于化学气相渗透致密C/C坩埚预制体(16)的反应室，所述反应室位于石墨支撑筒(6)和石墨顶盖(11)之间，所述反应室包括套装于石墨防污管(5)上的分气装置和设置于所述分气装置上方的石墨封气板(19)；所述分气装置包括石墨分气座和设置于石墨分气座上方的内石墨筒(15)，以及设置于石墨分气座上方且位于内石墨筒(15)外侧的外石墨筒(17)，所述外石墨筒(17)的筒壁上部开设有第一排气孔(18)，所述石墨分气座包括石墨底座(13‑1)和设置于石墨底座(13‑1)上方的石墨挡气板(13‑2)，所述石墨底座(13‑1)和石墨挡气板(13‑2)之间形成空腔(14)，石墨底座(13‑1)上安装有用于向空腔(14)内通入碳源气体的进气管(12)，所述石墨挡气板(13‑2)上开设有用于将空腔(14)内的碳源气体导出的第一出气孔(20)和第二出气孔(21)，第一出气孔(20)和第二出气孔(21)均位于内石墨筒(15)和外石墨筒(17)之间。