[发明专利]相位移光罩及其制造方法

摘要

本发明提供一种相位移光罩及其制造方法，此相位移光罩包括：基板、相位移层以及遮蔽层。相位移层位于所述基板上。相位移层的图案包括主图案以及次解析辅助图案。次解析辅助图案配置于所述主图案的周围。所述相位移层具有透射率，所述透射率大于6％。遮蔽层至少覆盖所述相位移层的所述次解析辅助图案。因此，本发明不仅能保留次解析辅助图案的功能(即增加光刻处理裕度)，而且在经过曝光处理与显影处理后，次解析辅助图案不会成像在半导体衬底上。

主权项

一种相位移光罩，其特征在于，包括：基板；相位移层，位于所述基板上，所述相位移层的图案包括：主图案；以及次解析辅助图案，配置于所述主图案的周围，其中所述相位移层具有透射率，所述透射率大于6％；以及遮蔽层，至少覆盖所述相位移层的所述次解析辅助图案。