[发明专利]一种触摸屏制备方法在审
| 申请号： | 201510222609.8 | 申请日： | 2015-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN106201041A | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 胡川;王浩 | 申请（专利权）人： | 东莞市伦丰电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 林瑞云;张爱武 |
| 地址： | 523719 广东省东莞市塘厦镇*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种触摸屏的制备方法，包括如下步骤：1）提供基片，并在基片的正反面镀导电层，该基片包括显示区和边框区；2）在基片的正反面导电层上覆盖光阻干膜；3）对基片正反面的光阻干膜有选择的曝光，形成曝光部分和非曝光部分，所述曝光部分或非曝光部分形成基片显示区域的导电层图案,所述曝光能量控制在20mJ至200mJ之间；4）通过显影、蚀刻工艺退去光阻干膜制得触摸屏；所述步骤2）到步骤4）在黄光条件下进行。本发明通过对曝光能量的控制，使得基片双面的曝光图案能够形成明显色差，不会相互干扰，既方便了人工操作，又能够在简化工艺的同时显著提高蚀刻工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 触摸屏 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种触摸屏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1）提供基片，并在基片的正反面镀导电层，该基片包括显示区和边框区；2）在基片的正反面导电层上覆盖光阻干膜；3）对基片正反面的光阻干膜有选择的曝光，形成曝光部分和非曝光部分，所述曝光部分或非曝光部分形成基片显示区域的导电层图案, 所述曝光能量控制在20mJ至200mJ之间；4）通过显影、蚀刻工艺退去光阻干膜制得触摸屏；所述步骤2）到步骤4）在黄光条件下进行。
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