[发明专利]一种在硅微通道板中生长石墨烯的方法在审

专利信息
申请号: 201510232694.6 申请日: 2015-05-08
公开(公告)号: CN104828772A 公开(公告)日: 2015-08-12
发明(设计)人: 王连卫;吴大军 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人: 吴泽群
地址: 200062 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种在硅微通道板中生长石墨烯的方法,包括以下步骤:(1)预处理:将硅微通道板浸泡在腐蚀液中;(2)无电镀镍:将预处理后的硅微通道板放入无电镀镍溶液中,进行化学镀多孔镍;(3)水热多元醇渗碳:表面活性剂再次浸泡镀镍硅微通道板,将其放入装有多元醇和钠盐催化剂的水热反应釜中;(4)退火:含有碳化镍的硅微通道板在管式炉中退火。与现有技术相比,该方法克服了利用电泳技术将石墨烯塞入硅微通道无法实现的困难;同时,避免了利用化学气相沉积方法生长石墨烯工艺复杂、成本高的缺点。能够在高深宽比的镀镍硅微通道板表面和孔内生长多层石墨烯,该方法环境友好,简单易行,成本低廉等特点。
搜索关键词: 一种 通道 生长 石墨 方法
【主权项】:
一种在硅微通道板中生长石墨烯的方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)预处理:将硅微通道板浸泡在以氢氟酸为主的腐蚀液中,去除表面自然生长的二氧化硅,使用表面活性剂活化硅微通道板;(2)无电镀镍:将预处理后的硅微通道板放入一定温度的无电镀镍溶液中,进行化学镀多孔镍;(3)水热多元醇渗碳:表面活性剂再次浸泡镀镍硅微通道板,将其放入装有多元醇和钠盐催化剂的水热反应釜中,一定温度和时间后,形成碳化镍;(4)退火:含有碳化镍的硅微通道板在管式炉中退火,使得碳化镍中的碳析出,形成多层石墨烯,并包覆在镀镍硅微通道的内壁和上表面。
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