[发明专利]光谱传感器、光谱传感器模块和光谱仪以及光谱分析方法有效
| 申请号： | 201510233081.4 | 申请日： | 2015-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN105092035B | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 韩承勋;朴弘圭;李文淑;赵成豪 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G01J3/44 | 分类号： | G01J3/44;G01N21/65 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 弋桂芬 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光谱传感器、包括该光谱传感器的光谱传感器模块和光谱仪以及进行光谱分析的方法，其中该光谱传感器包括：纳米天线阵列，包括具有不同的共振波段的多个纳米天线；和光学探测器阵列，其包括分别检测来自所述多个纳米天线的光的多个光学探测器。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 传感器 模块 光谱仪 以及 光谱分析 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光谱传感器，包括：纳米天线阵列，至少包括具有不同的各自的共振波段的第一纳米天线和第二纳米天线；和光学探测器阵列，包括分别检测来自所述第一纳米天线和所述第二纳米天线的光的第一光学探测器和第二光学探测器，其中所述第一纳米天线和所述第二纳米天线的每个包括：各自的上纳米结构层，具有第一堆叠结构以及形成为穿透所述第一堆叠结构的各自的第一多个纳米孔，其中在所述第一堆叠结构中具有第一折射率的第一电介质层和具有比所述第一折射率高的第二折射率的第二电介质层沿第一方向交替地堆叠；各自的下纳米结构层，具有第二堆叠结构以及形成为穿透所述第二堆叠结构的各自的第二多个纳米孔，其中在所述第二堆叠结构中具有第三折射率的第三电介质层和具有比所述第三折射率高的第四折射率的第四电介质层沿所述第一方向交替地堆叠；以及由电介质材料形成的各自的中间层，设置在对应的上纳米结构层和对应的下纳米结构层之间。
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