[发明专利]一种阴影特效图的生成方法及装置有效
| 申请号： | 201510233251.9 | 申请日： | 2015-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN104851122B | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 魏伟 | 申请（专利权）人： | 北京金山安全软件有限公司 |
| 主分类号： | G06T15/60 | 分类号： | G06T15/60 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 马敬;项京 |
| 地址： | 100085 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种阴影特效图的生成方法及装置，该方法包括：接收用户的阴影特效添加指令，确定目标阴影特效；新建目标画布，在新建的目标画布上，创建目标图片第一副本，所述目标图片第一副本中任一像素坐标相对于所述目标图片中对应像素坐标的偏移参数，与所述目标阴影特效的偏移参数相同，其中，所述偏移参数包括：偏移方向及偏移距离；将所述目标图片第一副本各像素的色彩参数，替换为所述目标阴影特效的色彩参数；在目标画布上与所述目标图片具有相同坐标的位置创建目标图片第二副本，使得所述目标图片第二副本覆盖替换色彩参数后的目标图片第一副本，从而生成所述目标图片的阴影特效图。与现有技术相比，阴影特效更加真实。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阴影 特效 生成 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种阴影特效图的生成方法，其特征在于，包括：接收用户的阴影特效添加指令，确定目标阴影特效；检测目标图片是否包含透明区域；在目标图片包含透明区域的情况下，新建目标画布，在新建的目标画布上，创建目标图片第一副本，所述目标图片第一副本中任一像素坐标相对于所述目标图片中对应像素坐标的偏移参数，与所述目标阴影特效的偏移参数相同，其中，所述偏移参数包括：偏移方向及偏移距离；将所述目标图片第一副本各像素的色彩参数，替换为所述目标阴影特效的色彩参数；在目标画布上与所述目标图片具有相同坐标的位置创建目标图片第二副本，使得所述目标图片第二副本覆盖替换色彩参数后的目标图片第一副本，从而生成所述目标图片的阴影特效图。
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