[发明专利]一种离子阱质量分析器及其信号的施加方法有效

专利信息
申请号: 201510236905.3 申请日: 2015-05-11
公开(公告)号: CN104934289B 公开(公告)日: 2017-07-21
发明(设计)人: 何洋;肖育;李晓旭 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: H01J49/42 分类号: H01J49/42
代理公司: 苏州市新苏专利事务所有限公司32221 代理人: 朱亦倩
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种离子阱质量分析器及其信号的施加方法,包括一个中央环电极,和对称置于该中央环电极两侧的端盖电极,每一个所述端盖电极中心上分别设有离子引入孔和离子射出孔,其特征在于两侧所述端盖电极分别由内圈电极及外圈电极构成,所述内圈电极与外圈电极之间设有电气隔离,所述离子引入孔及离子射出孔分别位于对应的内圈电极上,且两侧内圈电极分别为共振激发信号连接端,其施加信号方式有两种,直接施加于内圈电极上或通过耦合方式施加于内圈电极上。本发明仅在端盖电极的内圈电极上施加信号,从而有利于减少AC信号对离子阱内部离子运动的影响,提高离子出射的准确性和强度,离子阱的整体性能得到改善。
搜索关键词: 一种 离子 质量 分析器 及其 信号 施加 方法
【主权项】:
一种离子阱质量分析器的信号施加方法,其特征在于:所述离子阱质量分析器包括一个中央环电极,和对称置于该中央环电极两侧的端盖电极,每一个所述端盖电极中心上分别设有离子引入孔和离子射出孔,两侧所述端盖电极分别由内圈电极及外圈电极构成,所述内圈电极与外圈电极之间设有电气隔离,所述离子引入孔及离子射出孔分别位于对应的内圈电极上,其信号施加方法包括A或B两种方式,如下:方式A:在中央环电极上施加射频电压RF,在端盖电极的内圈电极上施加共振激发信号AC,端盖电极的外圈电极接地;或,方式B:在中央环电极上施加射频电压RF+,在端盖电极的外圈电极上施加与RF+幅值相等、相位差180°的射频电压RF‑,端盖电极的内圈电极上施加耦合了共振激发信号AC的射频电压RF‑。
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