[发明专利]薄片类介质处理装置

摘要

本发明提供了一种薄片类介质处理装置，包括底座和上盖，所述上盖通过转轴与所述底座枢接并能够相对于所述底座打开或者闭合，所述薄片类介质处理装置还包括上盖支撑机构，所述上盖支撑机构包括能够在第一状态和第二状态之间切换的支撑体，当所述上盖相对于所述底座闭合时，所述支撑体处于所述第一状态，当所述上盖相对于所述底座打开设定角度时，所述支撑体能够处于所述第二状态，其中，当所述支撑体处于所述第一状态时，所述支撑体附着在所述上盖的外表面上，当所述支撑体处于所述第二状态时，所述支撑体的至少一部分脱离所述上盖的外表面，以支撑所述上盖。该薄片类介质处理装置在上盖打开时不会发生仰翻，不会产生由此引起的设备损坏问题。

主权项

1.一种薄片类介质处理装置，包括底座和上盖，所述上盖通过转轴与所述底座枢接并能够相对于所述底座打开或者闭合，其特征在于，所述薄片类介质处理装置还包括上盖支撑机构，所述上盖支撑机构包括能够在第一状态和第二状态之间切换的支撑体，当所述上盖相对于所述底座闭合时，所述支撑体处于所述第一状态，当所述上盖相对于所述底座打开设定角度时，所述支撑体能够处于所述第二状态，其中，当所述支撑体处于所述第一状态时，所述支撑体附着在所述上盖的外表面上，当所述支撑体处于所述第二状态时，所述支撑体的至少一部分脱离所述上盖的外表面，以支撑所述上盖；所述支撑体通过枢接轴与所述上盖枢接，所述枢接轴的轴线平行于所述转轴的轴线，当所述上盖相对于所述底座打开且打开角度大于或等于90度时，所述支撑体在自身重力的作用下具有始终向所述第二状态切换的趋势；所述支撑体的第一端由所述上盖上的第一开口伸入所述上盖的内部并通过所述枢接轴与所述上盖枢接，所述支撑体的第二端位于所述上盖的外部并在所述第二状态下脱离所述上盖的外表面；所述上盖支撑机构还包括位于所述上盖内部的配重体，所述配重体与所述支撑体固定连接且与所述支撑体的第二端位于所述枢接轴的同一侧。