[发明专利]光刻机原位快速高空间分辨率波像差检测装置及方法有效

专利信息
申请号: 201510237227.2 申请日: 2015-05-12
公开(公告)号: CN106324995B 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: 李杰;唐锋;王向朝;吴飞斌;张国先;郭福东 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01M11/02
代理公司: 上海新天专利代理有限公司31213 代理人: 张泽纯,张宁展
地址: 201800 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光刻机原位快速高空间分辨率波像差检测装置及方法,该装置包括用于产生激光光束的光源,沿光束传播方向依次是照明系统、物面光栅板、能承载物面光栅板并拥有精确定位能力的掩模台、光刻机投影物镜、波像差传感器、能承载波像差传感器并具有XYZ三维扫描能力和精确定位能力的工件台。利用该装置实时原位检测光刻机投影物镜的波像差,提高了波像差检测速度和空间分辨率。
搜索关键词: 光刻 原位 快速 空间 分辨率 波像差 检测 装置 方法
【主权项】:
一种光刻机原位快速高空间分辨率波像差检测装置,其特征在于,该装置包括用于产生激光光束的光源(1)、照明系统(2)、物面光栅板(3)、能承载物面光栅板(3)并拥有精确定位能力的掩模台(4)、光刻机投影物镜(5)、波像差传感器(6)、能承载波像差传感器(6)并具有XYZ三维扫描能力和精确定位能力的工件台(7)和计算机(8);沿光束传播方向依次是所述的照明系统(2)、物面光栅板(3)、光刻机投影物镜(5)和波像差传感器(6);所述的物面光栅板(3)置于掩模台(4)上,所述的波像差传感器(6)置于工件台(7)上,所述的波像差传感器(6)与计算机(8)相连;所述的物面光栅板(3)由两个周期为Po且占空比为50%的物面光栅组成,两个物面光栅分别是光栅线沿y方向的第一光栅(301)和光栅线沿x方向的第二光栅(302);所述的波像差传感器(6)包括沿光束传播方向依次放置的像面光栅(601)、小孔阵列(602)和二维光电传感器(603);所述的小孔阵列(602)的周期等于光电二维传感器(603)的像素周期,小孔位置与光电二维传感器的像素位置一一对应,小孔直径为光电二维传感器(603)像素大小的1/N,N为采样频率;所述的第一光栅(301)和第二光栅(302)的周期Po与所述的像面光栅(601)的周期Pi满足如下关系;Po=Pi·M其中,M为光刻机投影物镜的成像放大倍数。
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