[发明专利]一种含有二氧化硅减反膜层的玻璃基材及其制备方法有效
申请号: | 201510238144.5 | 申请日: | 2015-05-12 |
公开(公告)号: | CN106277825B | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 陈志刚;魏永强;杨柯;陈明;孙向阳;马亚芬 | 申请(专利权)人: | 河南安彩高科股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/25 | 分类号: | C03C17/25;C01B33/145 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 钟守期;王媛 |
地址: | 455000 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明涉及减反膜技术领域,具体涉及一种含有二氧化硅减反膜层的玻璃基材及其制备方法。本发明含有二氧化硅减反膜层的玻璃基材,包括玻璃和二氧化硅减反膜层,所述二氧化硅减反膜层为复合结构,包括设于玻璃上的介孔二氧化硅膜层和设于介孔二氧化硅膜层上的致密二氧化硅膜层。其制备包括预聚体溶胶和涂膜溶胶的制备、两次涂膜和高温煅烧的步骤。本发明的玻璃基材在保证透过率的同时,还减少了介孔二氧化硅膜层吸附空气中的水汽引起的透过率衰减,提高了环境稳定性;本发明的制备方法操作简单,设备易于实现,制得的膜层附着力好、硬度高。 | ||
搜索关键词: | 一种 含有 二氧化硅 减反膜层 玻璃 基材 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种含有二氧化硅减反膜层的玻璃基材,包括玻璃和二氧化硅减反膜层,其特征在于,所述二氧化硅减反膜层为复合结构,包括设于玻璃上的介孔二氧化硅膜层和设于介孔二氧化硅膜层上的致密二氧化硅膜层;其中所述介孔二氧化硅膜层的厚度为80‑150nm;所述致密二氧化硅膜层的厚度为10‑35nm;所述介孔二氧化硅膜层的折射率为1.19‑1.38;所述致密二氧化硅膜层的折射率为1.41‑1.45。
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